一、离子镀硬质膜技术的最新进展和展望（论文文献综述）
谭宇佳[1]（2021）在《钛合金表面磁控溅射TiZrN涂层的制备及其性能研究》文中研究表明近年来,工业技术不断朝向现代化、产业化以及规模化发展,各种极端的工作条件频繁出现,对于加工工具、材料提出了更加严苛的要求。硬质涂层作为一种高性能材质,可用作材料表面充当防护涂层,从而提高材料的使用寿命,使其能够适应更加复杂的工作环境中。硬质涂层通常包括高硬度、高熔点的碳化物、氮化物、碳氮化物、硼化物、氧化物等材料。氮化物硬质涂层作为第四族元素综合性能优异,具有熔点、硬度高,耐磨性以及耐腐蚀性优良等特点而被广泛应用在机械制造、汽车、航空航天、模具加工等领域。因此,对于氮化物硬质涂层的制备及改良是先进制造工业需要探究的课题之一。本论文首先使用FJL520型磁控溅射设备在TC4基体上进行了 TiN涂层、ZrN涂层的制备,通过控制氩氮比、沉积温度及施加负偏压大小等参数,对其进行性能分析,得出在不同工艺参数控制下涂层的XRD衍射峰、硬度、结合力及电化学性能的变化规律,最终确定了最优的工艺参数值。随后通过使用不同靶材制备了两种TiZrN涂层,根据确定的工艺参数值,分别使用不同Ti、Zr 比例的复合靶材制备出TiZrN多元涂层以及使用纯靶制备了 TiN/ZrN、ZrN/TiN多层涂层,并对其进行了物相、硬度、结合力、耐腐蚀能力与耐摩擦磨损性能的分析。研究结果表明,二元TiN涂层、ZrN涂层在氩氮流量比为3:1、沉积温度为200℃、施加负偏压为100V时具有较为优良的综合性能,而制备的多元TiZrN涂层的综合性能明显优于二元氮化物涂层,使用不同Ti、Zr 比例的复合靶材制备的TiZrN多元涂层的综合性能明显优于多层TiN/ZrN、ZrN/TiN涂层,在Ti:Zr为2:1时,TiZrN涂层的综合性能最为优异,硬度可达33.955GPa,当Zr含量过大时,Ti与Zr间的相互作用会导致内部发生同类原子偏聚现象,会提高涂层的内应力,导致涂层的韧性降低,从而结合性能变差。因此对二元TiN涂层进行适量Zr元素的掺杂,能够大幅度提高其力学性能,而且Zr元素的掺杂还可以提高涂层的耐腐蚀性能及耐摩擦磨损性能。这主要是因为Zr的原子尺寸大于Ti原子,在形成TiZrN涂层时,Zr原子替换了涂层中Ti原子的位置,使其晶格产生畸变,使位错难以发生滑移,从而发生固溶强化,最终使涂层的综合性能得以改善。
张驰[2]（2021）在《钛铝锆氮膜系硬度极值影响因素与分布规律研究》文中研究说明本研究选用多弧离子镀技术制备了金属组元含量不同的钛铝锆氮（TiAlZrN）膜层。选用铝钛（Al Ti）合金靶、单质（Zr）靶、钛锆（Ti Zr）合金靶、钛铝锆（Ti Al Zr）合金靶等多种靶材进行组合。设计合理的工艺流程,保持偏压、轰击时间、沉积时间、气体流入量、沉积温度等工艺参数相一致。在设计了钛铝锆氮（TiAlZrN）膜层的成分的基础上,选择不同靶材组合并对阴极弧源靶电流进行调控,制备出金属组元含量不同的钛铝锆氮（TiAlZrN）膜层。所获得的各组钛铝锆氮（TiAlZrN）膜层的厚度基本一致,变化范围在0.8μm～1.2μm。选用扫描电镜（SEM）及能谱分析对钛铝锆氮（TiAlZrN）膜层中的成分和形貌组织进行检测分析,选用X射线衍射仪对膜层相结构进行检测分析,选用HXD-1000TM显微硬度计对膜层的硬度进行测试,选用WS-2005膜层附着力自动划痕仪对膜层的膜/基结合力进行测试。对各组钛铝锆氮（TiAlZrN）膜层的组元含量、形貌组织、相结构、硬度和膜/基结合力进行分析讨论,探究膜层成分变化对膜层表面形貌以及相结构的影响,分析钛铝锆氮（TiAlZrN）膜层在不同成分区间硬度的变化规律。本研究的结果表明,膜层硬度随着膜层成分含量的变化呈现有规律的变化,当铝（Al）含量:钛（Ti）含量:锆（Zr）含量越接近1:1:1时,钛铝锆氮（TiAlZrN）膜层更容易出现较大的硬度值。
刘海华,宋鹏涛,郭新刚,陈世佳,龚翔,罗晨,黄宝渝[3]（2020）在《手表装饰用氮化锆薄膜的制备及性能》文中研究表明采用离子镀与磁控溅射工艺在316L不锈钢上制备了Cr（Si）/ZrN/Au梯度薄膜。该薄膜呈金黄色,具有优良的结合强度、耐蚀性和耐磨性,是理想的手表用装饰性膜层。其中金层厚度小于10 nm,用金量极少。
徐晨宁,张钧,代佳艺,孙欣[4]（2020）在《三组元氮化物硬质膜的硬度研究进展》文中研究表明结合氮化物薄膜的主要制备方法,主要就工艺参数和组元配比对氮化物薄膜硬度的影响进行了详细的介绍。从微观角度分析了在实际制备时,偏压、靶电流、N2流量、温度等工艺参数对氮化物薄膜硬度的影响。详细指出不同工艺参数、不同组元配比下氮化物膜层硬度的变化趋势,并指出对于三组元氮化物薄膜的最佳组元配比。对于目前常用的提高硬度的方法进行了论述,如细晶强化、固溶强化、离子轰击、晶界强化等。最后对当前提高氮化物硬度的方法和未来氮化物膜层硬度的研究方向进行了展望。
包改磊[5]（2019）在《多弧离子镀制备CrWN/MoN纳米复合涂层及其性能研究》文中指出CrN涂层由于具有硬度高、耐磨性好、热稳定性高和耐腐蚀性优良等特点,广泛应用于机械制造加工、腐蚀防护、表面装饰等多种领域。但随着现代制造业和新材料的不断发展,单一的CrN涂层已经不能满足现代加工及机器复杂工况的要求。为了能进一步提升CrN涂层的性能,本文采用多弧离子镀技术,分别以Cr靶、CrW靶、Mo靶等为阴极弧靶材,制备了CrN、CrWN、MoN、CrWN/MoN等多种涂层,研究了主要工艺参数对涂层性能的影响规律,并对比了W、Mo元素掺杂后的CrWN、CrWN/MoN涂层与CrN涂层的性能变化。首先,以Cr靶、CrW靶为阴极弧靶材,分别制备CrN和CrWN涂层,并研究了沉积气压和基片偏压对CrWN涂层结构和性能的影响。结果表明,随着沉积气压逐渐增大,CrWN涂层表面的大颗粒尺寸及数量均有所减少,涂层表面质量变好。涂层的厚度呈现出先增大后减小的变化趋势,涂层的显微硬度无明显变化。涂层的膜基结合强度随着沉积气压逐渐增大出现一定的增大趋势。基片偏压对CrWN涂层表面形貌和厚度也产生了一定程度的影响。随着基片偏压逐渐增大,CrWN涂层的表面质量也逐渐得到改善,涂层的厚度和膜基结合强度出现减小趋势。在沉积气压为1.0 Pa、基片偏压为120 V时,所制备CrWN涂层耐磨性能最好,平均摩擦系数达到0.49,相对CrN涂层的磨损率下降约26.9%。其次,以Mo靶为阴极弧靶材制备MoN涂层,研究了沉积气压和基片偏压对MoN涂层结构和性能的影响。结果表明,沉积气压对MoN涂层的结构影响较大,所制备MoN涂层在低气压下表现为γ-Mo2N,随着气压增大逐渐转变为δ-MoN。随着沉积气压增大,MoN涂层表面质量有所改善,涂层的厚度也有所增大。膜基结合强度出现先增大后减小的变化趋势,在沉积气压为1.5 Pa时达到最大值为48 N。在沉积气压为1.0 Pa时所制备涂层的显微硬度达到最大值2200 HV,此时耐磨性较好。当沉积气压不变时,随着基片偏压逐渐增大,MoN涂层的表面质量同样有所改善,涂层的厚度逐渐减小,显微硬度无明显变化。膜基结合强度出现先增大后减小的趋势,在基片偏压为120 V时达到最大值。在基片偏压为70 V时所制备MoN涂层的耐磨性最差。在沉积气压为1.0 Pa,基片偏压为120 V时所制备MoN涂层的耐磨性能较好。最后,同时以CrW靶、Mo靶为阴极弧靶材,制备CrWN/MoN纳米复合涂层,研究了调制周期对复合涂层的结构和性能的影响。结果表明,不同调制周期的CrWN/MoN纳米复合涂层主要包含CrWN、δ-MoN两种晶体结构。随着调制周期逐渐减小,涂层内部晶粒逐渐细化,涂层的表面质量得到改善。涂层的脆性增大导致结合强度开始出现下降趋势,涂层的硬度和弹性模量均出现先减小后增大的变化趋势,并在调制周期为最小值8 nm时均达到最大值,分别为30.2 GPa和354.6 GPa。此时涂层的平均摩擦系数与磨损率均达到最小值,分别为0.29和3.3×10-7 mm3/Nm,复合涂层的耐磨性能达到最优,相对于单一的CrN涂层磨损率减小多达50.7%。
刘恋[6]（2019）在《Cr12MoV钢表面电弧离子镀TiCN膜及复合处理技术研究》文中进行了进一步梳理汽车零部件主要依靠冲压模具成型,而冲压模具往往于表面最先失效,模具表面性能的优劣直接影响到模具的使用及寿命。PVD镀膜技术是提高冲压模具表面硬度与耐磨性的一种经济、有效的方法。为满足我国冲压模具产业高强度、高质量和大批量生产等方面的发展需求,延长冲压模具的使用寿命,需确保硬质薄膜具备更高的硬度与耐磨性,薄膜与基体之间具有良好的结合强度。本文采用电弧离子镀技术制备了系列TiCN薄膜和Ti/TiCN多层膜,同时通过等离子渗氮与电弧离子镀复合处理技术在模具钢上制备复合薄膜,重点研究了偏压、调制周期等镀膜工艺参数和渗氮预处理技术对TiCN薄膜和Ti/TiCN多层膜组织结构和机械性能的影响。主要结果如下:通过电弧离子镀技术制备TiCN单层膜,采用正交实验,初步探索偏压、气体总量和气体流量比值对TiCN薄膜显微组织和机械性能的影响规律,实验结果表明:偏压对TiCN薄膜的硬度与结合力的影响最显着,气体总量对薄膜厚度影响最大。正交实验的最佳工艺方案是气体总量:300 sccm,气体比值:Q（CH4）:Q（N2）=2:1,偏压:-200 V。对偏压参数进行优化,沉积一系列不同偏压的TiCN薄膜。实验结果表明:偏压对TiCN薄膜中碳的存在形式有重要影响。随着偏压的提高,TiCN薄膜硬度大幅提高,结合力先增大后减小,耐磨性提高,主要摩擦磨损机制从黏着磨损转变为磨粒磨损。在偏压为-250 V时,TiCN薄膜获得最佳的综合性能,硬度值为4017 HV0.025,膜基结合力为51.06 N,平均摩擦系数为0.3221,磨损率为2.9×10-7 mm3·N-1·m-1。研究调制周期对Ti/TiCN多层膜的显微组织和机械性能的影响。结果表明:多层膜截面组织均为柱状晶,随着调制周期的减小,晶粒变小,Ti/TiCN多层膜表面液滴情况改善,促进TiC0.7N0.3在（200）和（220）方向的生长。同时,随着调制周期的减小,多层膜硬度线性增加,最高硬度值为4010 HV0.025;膜基结合强度先增加后减小,摩擦系数和磨损率均表现出先增大后减小的趋势,且主要磨损机制为磨粒磨损。调制周期为188 nm时,Ti/TiCN多层膜综合性能最好,此时硬度为3601 HV0.025,结合力为52.91 N。平均摩擦系数为0.4328,磨损率为4.66×10-7 mm3·N-1·m-1。采用等离子渗氮技术与电弧离子镀技术,对Cr12MoV钢进行表面复合强化处理。结果表明:渗氮预处理对复合薄膜的硬度和结合力均有提高,复合膜具备更好的耐磨性,其中,渗氮预处理与TiCN复合的薄膜综合性能最佳,其硬度值为4257 HV0.025,结合力为60.61 N,平均摩擦系数为0.3014,磨损率为2.41×10-7 mm3·N-1·m-1。
许莎莎[7]（2019）在《TA19合金表面TiAlN硬质膜的制备及摩擦磨损行为研究》文中认为钛合金具有比强度高、耐蚀性好、耐热性高等优点,已经广泛应用于飞机结构材料中,用于制造航空发动机风扇、压气机轮盘、叶片等重要飞机结构件。TA19合金密度低,是一种高Al当量的近α型中强度钛合金,特别适合于制造各种焊接零部件,是高温应用的理想材料。但TA19合金的耐磨性能较差,限制了其应用,为解决这一问题,本文拟采用反应磁控溅射技术改善TA19合金表面的耐磨性。本课题通过反应磁控溅射技术,在TA19合金表面制备TiAlN硬质薄膜。首先设计正交试验,分析溅射功率、工作气压、Ar/N2流量比和工作时间四个工艺参数对TiAlN薄膜性能的影响,得出最佳工艺参数。然后观察分析最佳工艺参数下制备的TiAlN薄膜的组织结构和力学性能,采用SEM、EDS及XRD分析薄膜的表面及截面形貌、成分分布和相结构,测试薄膜的显微硬度、粗糙度和结合力大小。最后进行球-盘磨损试验,探究载荷、速度和温度三个因素对TA19合金和TiAlN薄膜的摩擦磨损性能的影响。试验结果表明:（1）反应磁控溅射制备TiAlN薄膜的最佳工艺参数为:溅射功率250W,工作气压0.8Pa,氩氮流量比30:40,工作时间3h。（2）最佳工艺参数下制备的TiAlN薄膜表面致密均匀、无孔洞,厚度约为3.6μm;XRD衍射结果表明薄膜的主要物相组成是TiAlN相和TiN相;TiAlN薄膜的平均显微硬度值达到1208.2HV0.1,较基体相比提高了近3倍;TiAlN薄膜的粗糙度为7.68nm,降低了基体的表面粗糙度;TiAlN薄膜和基体的结合强度达到53.3N。（3）球-盘磨损试验结果表明,在TA19合金基体上磁控溅射TiAlN薄膜后,摩擦系数与TA19基体相比有了明显的降低,TiAlN薄膜的磨损速度和比磨损率与TA19基体相比分别降低了一个数量级。在330g高载荷下,TiAlN薄膜出现破裂,部分区域剥落。当滑动速度由低速变为高速时,TiAlN薄膜的磨损形式由轻微的磨粒磨损转化为磨损较多的磨粒磨损和氧化磨损。500℃高温条件下,薄膜表面发生氧化磨损,生成不太致密的氧化层,但对基体仍然具有保护作用。
陈仁德[8]（2018）在《钛靶受控阴极电弧的放电特性与大颗粒缺陷研究》文中研究指明兼具高硬度、低摩擦、高抗温性、强韧一体的高性能刀具涂层技术,是实现以数控机床为基础的现代制造业的三大核心切削技术之一。阴极真空电弧的金属离化率高、沉积速率快、膜基结合好,采用其制备的氮化物陶瓷基硬质涂层是当前加工铁基体料和轻质难加工材料的典型刀具涂层体系之一。但因电弧产生机制复杂和弧斑运动不规则,宏观大颗粒共沉积严重,导致涂层晶粒粗大、质量差,这使其应用受到严重制约。本论文基于自主设计、研制的高离化率磁控溅射复合受控阴极电弧镀膜装置,通过实验测量、几何仿真与磁场模拟分析,对比研究了受控阴极电弧在有无外加电磁线圈情况下,阴极靶材表面及近表面内的磁场分布、磁感应强度、及其对弧斑运动轨迹的影响规律,并探讨了不同弧流及线圈电流调节下制备的Ti、TiN涂层的表面形貌及大颗粒分布情况。相关结果在理解受控阴极电弧的放电特性基础理论和发展钛基涂层材料关键技术方面都意义重大。首先,我们构建了受控阴极电弧的几何模型,结合优化的COMSOL物理模型,分析了倾斜磁场与弧斑运动的依存关系。基于Matlab脚本,分析了不同弧流及工作气体下,阴极表面的弧斑分布、大小、运动轨迹和运行速率。通过等离子体鞘层模型和带电粒子受力分析,建立了倾斜磁场分布与弧斑运动轨迹之间的关系。结果表明:在较弱的阴极表面永磁磁场下,弧斑做螺旋向内和向外的交替运动,同时还伴随一定的随机运动,增强磁场有利于靶材的均匀刻蚀,从而减少大颗粒的溅射。进一步,引入外加磁场,建立了电磁耦合永磁铁磁场的有限元分析模型,研究了不同线圈电流条件下阴极表面及近表面区域内的磁感应强度分布和线圈电流对电弧光斑运动轨迹的影响。结果表明:阴极表面弧斑的运动行为主要受磁感应强度平行分量和垂直分量的影响,调节线圈电流,可不同平行分量和垂直分量的分布。磁感应强度平行分量越强弧斑旋转速率越快,平行分量最大时弧斑尺寸较小;平行分量为零的区域弧斑无规则运动显着增强,同时弧斑尺寸增加。当磁感应强度垂直分量与平行分量大小相差较小时,弧斑在阴极表面均匀分布,且弧斑尺寸较小;但当垂直分量径向梯度较大时,磁场越强的地方扫描速率越快,弧斑将长时间停留在垂直分量很小的地方作旋转运动。根据弧斑运动行为的分析,进一步调控阴极电弧弧流和线圈电流,研究了其对Ti、TiN两类典型涂层制备与表面形貌的影响。发现随弧流减小,阴极电弧放电减弱,弧斑运动随之发生变化,涂层表面大颗粒减少、粗糙度降低。当调节耦合电磁场的线圈电流至3.5 A时,磁场平行分量和垂直分量大小相差较小,涂层表面大颗粒最少,其中Ti涂层平均粗糙度为103 nm,TiN涂层平均粗糙度为20.2nm,相比未加电磁场时两类涂层的粗糙度降低了约1倍。
邓阳[9]（2017）在《YG10X硬质合金上磁控溅射沉积W-N硬质膜及其性能研究》文中研究说明随着现代机械加工技术不断向高速化、高效化、高精化、干切削、硬切削等方向发展,对刀具涂层提出了更高的要求。基于WN涂层的优异性能,且与WC具有相同的晶体结构和相近的晶胞参数,本文在YG10X硬质合金上采用直流磁控溅射（DCMS）和高离化等离子体辅助涂层（HIPAC）技术,通过对W靶溅射功率和N2/Ar流量比的调控,沉积不同组分和结构的W-N硬质膜,并借助多种现代检测手段对其进行系统表征与分析,主要试验结果如下:采用DCMS技术,调控W靶溅射功率,制备的W-N硬质膜表面均呈“菜花状”,其表面粗糙度Ra为0.0620.086μm,与水的接触角为3852?,随溅射功率的增加,接触角呈增大趋势。成分分析表明,随着溅射功率的增加,W元素含量增加,主要结构由单一的fcc-W2N相转变为bcc-W和fcc-W2N的混和相,且W2N相的择优晶面由（200）转向（111）。随着溅射功率的增加,硬质膜的沉积速率增大,纳米硬度呈升高趋势,最大达23.23GPa。结合力试验表明,不同溅射功率下W-N硬质膜均与基体附着良好,当载荷为100N时,硬质膜仍未出现失效。摩擦学试验表明,不同溅射功率制备的W-N硬质膜的平均摩擦系数为0.410.47,当溅射功率为7kW时,摩擦系数最低,磨损率最小为2.11×10-16m3/N?m。电化学试验表明,不同溅射功率制备的W-N硬质膜均明显提高了基体的自腐蚀电位,随着溅射功率的增加,所沉积的硬质膜开始出现点蚀现象。调控N2/Ar流量比,制备的W-N硬质膜表面均呈“菜花状”,与水的接触角约为52?,其表面粗糙度Ra为0.0620.074μm,随N2/Ar流量比的增加而呈增大趋势。成分分析表明,随N2/Ar流量比增加,N元素含量增加,主要结构由bcc-W和fcc-W2N的混和相向纯fcc-W2N相转变,且沿（200）面择优;随N2/Ar流量比增加,沉积速率降低,其纳米硬度呈增加趋势,最高达26.44GPa,横断面形貌由柱状晶结构转变为纤细短柱状形态和无特征致密形态的组合。结合力试验表明,不同N2/Ar流量比下W-N硬质膜均与基体附着良好,加载载荷为100N时,硬质膜仍未出现失效,但随着N2/Ar流量比增加,硬质膜表面出现裂纹,膜基附着性降低。摩擦学试验表明,不同N2/Ar流量比制备的W-N硬质膜的平均摩擦系数为0.380.44,当N2/Ar=80/80时,摩擦系数最低,磨损率最小达2.05×10-16m3/N?m。电化学试验表明,W-N硬质膜提高了基体的自腐蚀电位,耐蚀性好。采用HIPAC技术制备的W-N硬质膜表面平整光滑,粗糙度Ra为0.073μm,微观形貌呈现离子刻蚀造成的“韧窝”,与水的接触角为41.7°。能谱分析表明,W-N硬质膜原子比为W88.36N11.64,主要物相为bcc-W和fcc-W2N的混和相,横断面形貌为无明显特征的超致密结构,纳米硬度29.24GPa。结合力试验表明,硬质膜与基体的附着良好,当加载载荷为100N时,硬质膜仍未出现失效。摩擦学试验表明,采用HIPAC技术制备的W-N硬质膜的平均摩擦系数为0.35。电化学试验表明,采用HIPAC技术制备的W-N硬质膜耐蚀性能好,仅在样品装夹处出现了腐蚀现象。
戴步实[10]（2016）在《TiCrN硬质膜组元配比对组织与性能的影响规律研究》文中研究表明多组元氮化物硬质反应膜的金属组元配比直接影响着膜层的组织结构和性能,成分优化研究是多组元氮化物硬质反应膜的一个重要分支方向。本课题采用多弧离子镀沉积技术,选用单质Ti靶、单质Cr靶和两种成分的Ti-Cr合金靶,分别组合,通过合理调整控制阴极靶弧电流,获得了成分（Ti/Cr原子比）均匀变化的系列TiCrN硬质膜。系统考查了所制备的TiCrN硬质膜的化学成分、形貌组织、相组成以及膜层硬度和抗热震性能,揭示了Ti/Cr组元配比对TiCrN硬质膜的影响作用。研究结果和讨论分析表明,在沉积工艺基本一致的前提下,采用双合金靶组合制备的TiCrN硬质膜层比单质靶组合具有膜层生长率高、表面液滴更多、N含量在膜层生长方向上分布均匀的特点;不同的阴极弧源靶组合方式未对膜层的相组成产生影响,本课题所制备的具有不同Ti/Cr原子比的TiCrN硬质膜层均由单一的TiCrN相组成,该TiCrN相具有面心立方结构,XRD中显示的金属相来自膜层中的液滴;但是,TiCrN硬质膜层的择优生长取向随着膜层中Ti/Cr原子比的变化而变化,当TiCrN膜层中Ti/Cr原子比较小时,其择优生长取向为（111）晶面,随着Ti/Cr原子比增大,择优生长取向变为（111）和（220）,当膜层中Ti/Cr原子比大约在1:1时,其择优生长取向变为（200）,随着膜层中Ti/Cr原子比继续增大,择优生长取向变为（111）、（200）和（220）晶面。在力学性能方面,随着膜层中Ti/Cr原子比的增加,TiCrN硬质膜层显微硬度值呈现先增大后减小的变化规律,当Ti/Cr原子比为1:0.87时,膜层硬度出现峰值,达到4033HV。TiCrN硬质膜层的热震行为研究表明,TiCrN硬质膜层的热震循环过程（空冷）主要包括两个阶段,热震循环初期的氧含量增加的稳态氧化阶段、随着膜层表面氧化加剧、膜层表面开始产生裂纹的氧化失稳阶段,最终导致TiCrN硬质膜层失效。单纯增加膜层中Cr含量并不能提高TiCrN硬质膜的抗热震性能,反而容易加剧膜层在热震循环过程中表面氧化进程。
二、离子镀硬质膜技术的最新进展和展望（论文开题报告）
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、离子镀硬质膜技术的最新进展和展望（论文提纲范文）
（1）钛合金表面磁控溅射TiZrN涂层的制备及其性能研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 1. 绪论 |
| 1.1 课题的研究背景 |
| 1.2 研究材料简介 |
| 1.2.1 钛合金简介 |
| 1.2.2 氮化物简介 |
| 1.3 氮化物涂层国内外研究进展 |
| 1.3.1 二元氮化物涂层 |
| 1.3.2 多元氮化物涂层 |
| 1.4 常见涂层制备方法 |
| 1.5 硬质涂层的应用 |
| 1.6 涂层强化机制的理论研究 |
| 1.7 本课题的研究内容及意义 |
| 2. 实验方法及性能表征手段 |
| 2.1 磁控溅射技术 |
| 2.2 实验设备及材料 |
| 2.2.1 涂层制备设备 |
| 2.2.2 磁控溅射设备固定参数 |
| 2.2.3 样品的预处理 |
| 2.3 性能表征方法 |
| 2.3.1 X射线衍射实验 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜显微分析 |
| 2.3.3 纳米压痕测试 |
| 2.3.4 划痕测试 |
| 2.3.5 摩擦磨损测试 |
| 2.3.6 电化学工作站测试 |
| 3. TiN涂层的制备及其性能研究 |
| 3.1 不同氩氮比下TiN涂层的性能研究 |
| 3.1.1 XRD分析 |
| 3.1.2 划痕分析 |
| 3.1.3 硬度分析 |
| 3.2 不同沉积温度下TiN涂层的性能研究 |
| 3.2.1 XRD分析 |
| 3.2.2 划痕分析 |
| 3.2.3 硬度分析 |
| 3.2.4 电化学分析 |
| 3.3 不同偏压下TiN涂层的性能研究 |
| 3.3.1 XRD分析 |
| 3.3.2 划痕分析 |
| 3.3.3 硬度分析 |
| 3.4 小结 |
| 4. ZrN涂层的制备及其性能研究 |
| 4.1 不同氩氮比下ZrN涂层的性能研究 |
| 4.1.1 XRD分析 |
| 4.1.2 划痕分析 |
| 4.1.3 硬度分析 |
| 4.2 不同沉积温度下ZrN涂层的性能研究 |
| 4.2.1 XRD分析 |
| 4.2.2 划痕分析 |
| 4.2.3 硬度分析 |
| 4.2.4 电化学分析 |
| 4.3 不同偏压下ZrN涂层的性能研究 |
| 4.3.1 XRD分析 |
| 4.3.2 划痕分析 |
| 4.3.3 硬度分析 |
| 4.4 小结 |
| 5. TiZrN涂层的制备及其性能研究 |
| 5.1 不同Ti、Zr比例的复合靶制备TiZrN涂层的性能分析 |
| 5.1.1 表面形貌分析 |
| 5.1.2 EDS能谱分析 |
| 5.1.3 XRD分析 |
| 5.1.4 划痕分析 |
| 5.1.5 硬度分析 |
| 5.1.6 耐腐蚀性能分析 |
| 5.1.7 摩擦磨损性能分析 |
| 5.1.8 TiZrN涂层的强化机制 |
| 5.2 多层TiZrN涂层的性能研究 |
| 5.2.1 表面形貌分析 |
| 5.2.2 EDS分析 |
| 5.2.3 XRD分析 |
| 5.2.4 力学性能分析 |
| 5.2.5 电化学性能分析 |
| 5.3 小结 |
| 6. 结论 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间主要研究成果 |
（2）钛铝锆氮膜系硬度极值影响因素与分布规律研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 氮化铝(AlN)系膜层研究的现状和进展 |
| 1.2 氮化铝(AlN)系膜层的制备工艺及应用介绍 |
| 1.3 氮化铝(AlN)系膜层的性能的研究发展 |
| 1.3.1 硬度和耐磨性能 |
| 1.3.2 抗高温氧化性 |
| 1.3.3 热稳定性 |
| 1.3.4 耐腐蚀性 |
| 1.3.5 膜/基结合力 |
| 1.3.6 光热性能 |
| 1.4 试验研究背景及意义 |
| 1.5 试验计划 |
| 第2章 试验材料与研究方法 |
| 2.1 多弧离子镀镀膜设备 |
| 2.1.1 多弧离子镀设备简介 |
| 2.2 试验材料的选择及处理 |
| 2.2.1 阴极弧源靶材的选择及预处理 |
| 2.2.2 基底材料选择及预处理 |
| 2.3 钛铝锆氮(TiAlZrN)膜层的沉积工艺 |
| 2.4 钛铝锆氮(TiAlZrN)膜层检测分析方法 |
| 2.4.1 膜层的断口检测 |
| 2.4.2 钛铝锆氮(TiAlZrN)膜层相组成测试分析 |
| 2.4.3 膜层的膜/基结合力检测 |
| 2.4.4 膜层的硬度检测 |
| 第3章 钛铝锆氮(TiAlZrN)膜层的成分、组织及相结构分析 |
| 3.1 钛铝锆氮(TiAlZrN)膜层成分分析 |
| 3.2 钛铝锆氮(TiAlZrN)膜层的表面形貌分析 |
| 3.3 钛铝锆氮(TiAlZrN)膜层的断面形貌分析 |
| 3.4 钛铝锆氮(TiAlZrN)膜层的相结构分析 |
| 3.5 本章小结 |
| 第4章 钛铝锆氮(TiAlZrN)膜层的硬度规律分析 |
| 4.1 钛铝锆氮(TiAlZrN)膜层的硬度检测及影响因素分析 |
| 4.2 钛铝锆氮(TiAlZrN)膜层的硬度分布规律 |
| 4.3 钛铝锆氮(TiAlZrN)膜层的膜基结合力 |
| 4.4 本章小结 |
| 第5章 结论与展望 |
| 5.1 结论 |
| 5.2 展望 |
| 参考文献 |
| 在学期间研究成果 |
| 致谢 |
（3）手表装饰用氮化锆薄膜的制备及性能（论文提纲范文）
| 1 实验 |
| 1.1 Cr(Si)层的制备 |
| 1.2 ZrN层的制备 |
| 1.3 24K金调色 |
| 2 结果与讨论 |
| 2.1 薄膜的外观 |
| 2.2 薄膜的组成 |
| 2.3 结合力 |
| 2.4 耐蚀性 |
| 2.5 耐磨性 |
| 3 结论 |
（4）三组元氮化物硬质膜的硬度研究进展（论文提纲范文）
| 0前言 |
| 1 常用制备技术 |
| 2 工艺参数对薄膜硬度的影响 |
| 2.1 偏压大小薄膜硬度的影响 |
| 2.2 电流对薄膜硬度的影响 |
| 2.3 N2流量大小对薄膜硬度的影响 |
| 2.4 温度对薄膜硬度的影响 |
| 3 金属元素对薄膜硬度的影响 |
| 3.1（Ti,Al)N |
| 3.2（Ti,Zr)N |
| 3.3（Ti,Cr)N |
| 3.4 组元配比对三组元氮化物硬度的影响 |
| 4 提高氮化物硬度的方法 |
| 4.1 细晶强化 |
| 4.2 通过离子轰击硬化 |
| 4.3 晶界强化 |
| 4.4 固溶强化 |
| 5 结语和展望 |
（5）多弧离子镀制备CrWN/MoN纳米复合涂层及其性能研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 涂层材料研究现状 |
| 1.3 铬基氮化物涂层及其应用 |
| 1.3.1 单一CrN涂层 |
| 1.3.2 多元铬基氮化物涂层及其研究现状 |
| 1.3.3 W、Mo元素掺杂CrN涂层研究现状 |
| 1.4 涂层常用制备方法 |
| 1.4.1 化学气相沉积技术 |
| 1.4.2 物理气相沉积技术 |
| 1.4.3 多弧离子镀技术发展及其应用 |
| 1.5 本课题研究意义 |
| 1.6 本课题研究内容 |
| 1.7 课题来源 |
| 第二章 试验材料和方法 |
| 2.1 试验材料的选取和预处理 |
| 2.2 实验设备 |
| 2.3 工艺方案 |
| 2.3.1 基础工艺 |
| 2.3.2 工艺路线 |
| 2.4 分析测试方法 |
| 2.4.1 物相结构分析 |
| 2.4.2 表面与截面形貌分析 |
| 2.4.3 硬度测试 |
| 2.4.4 结合强度测试 |
| 2.4.5 摩擦磨损性能测试 |
| 第三章 多弧离子镀制备CrN、CrWN涂层的研究 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 CrN涂层的制备及其性能研究 |
| 3.2.1 试验参数 |
| 3.2.2 物相结构 |
| 3.2.3 形貌分析 |
| 3.2.4 力学性能与结合强度 |
| 3.3 沉积气压对CrWN涂层结构和性能的影响 |
| 3.3.1 试验参数 |
| 3.3.2 物相结构 |
| 3.3.3 形貌分析 |
| 3.3.4 力学性能 |
| 3.3.5 结合强度 |
| 3.4 基片偏压对CrWN涂层结构和性能的影响 |
| 3.4.1 试验参数 |
| 3.4.2 物相结构 |
| 3.4.3 形貌分析 |
| 3.4.4 力学性能 |
| 3.4.5 结合强度 |
| 3.4.6 CrN、CrWN涂层摩擦性能对比 |
| 3.5 本章小结 |
| 第四章 多弧离子镀制备MoN涂层的研究 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 沉积气压对MoN涂层结构和性能的影响 |
| 4.2.1 试验参数 |
| 4.2.2 物相结构 |
| 4.2.3 形貌分析 |
| 4.2.4 力学性能 |
| 4.2.5 结合强度 |
| 4.3 基片偏压对MoN涂层结构和性能的影响 |
| 4.3.1 试验参数 |
| 4.3.2 物相结构 |
| 4.3.3 形貌分析 |
| 4.3.4 力学性能 |
| 4.3.5 结合强度 |
| 4.4 本章小结 |
| 第五章 多弧离子镀制备Cr WN/MoN涂层的研究 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 调制周期对CrWN/MoN纳米复合涂层结构和性能的影响 |
| 5.2.1 试验参数 |
| 5.2.2 物相结构 |
| 5.2.3 形貌分析 |
| 5.2.4 力学性能 |
| 5.2.5 结合强度 |
| 5.3 CrN、CrWN、CrWN/MoN涂层的摩擦性能对比 |
| 5.4 本章小结 |
| 结论 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 |
| 致谢 |
| 附件 |
（6）Cr12MoV钢表面电弧离子镀TiCN膜及复合处理技术研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 Cr12型模具钢概述 |
| 1.3 汽车冲压模具表面处理技术 |
| 1.3.1 表面改性技术 |
| 1.3.2 气相沉积技术 |
| 1.3.3 表面复合处理技术 |
| 1.4 TiCN薄膜的研究现状 |
| 1.5 研究目的 |
| 1.6 研究内容 |
| 第二章 实验内容与方法 |
| 2.1 实验材料及预处理 |
| 2.2 实验制备 |
| 2.2.1 实验设备及原理 |
| 2.2.2 实验流程 |
| 2.2.3 技术路线 |
| 2.2.4 工艺方案 |
| 2.3 薄膜成分、结构及性能的表征 |
| 2.3.1 硬度测试 |
| 2.3.2 厚度表征 |
| 2.3.3 结合强度测试 |
| 2.3.4 微观形貌和成分分析 |
| 2.3.5 物相结构分析 |
| 2.3.6 摩擦磨损性能分析 |
| 第三章 TiCN薄膜的制备及性能研究 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 TiCN薄膜正交实验 |
| 3.2.1 工艺参数对TiCN薄膜表面形貌的影响 |
| 3.2.2 极差分析 |
| 3.2.3 正交实验工艺参数优选 |
| 3.3 不同偏压下TiCN薄膜的制备及性能研究 |
| 3.3.1 偏压对TiCN薄膜截面形貌的影响 |
| 3.3.2 偏压对TiCN薄膜晶体结构的影响 |
| 3.3.3 偏压对TiCN薄膜的成分、表面形貌和沉积速率的影响 |
| 3.3.4 偏压对TiCN薄膜力学性能的影响 |
| 3.3.5 偏压对TiCN薄膜摩擦磨损性能的影响 |
| 3.4 本章小结 |
| 第四章 Ti/TiCN多层膜的制备及性能研究 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 Ti/TiCN多层膜的制备 |
| 4.3 不同调制周期对Ti/TiCN多层膜性能的影响 |
| 4.3.1 调制周期对Ti/TiCN多层膜表面形貌和成分的影响 |
| 4.3.2 调制周期对Ti/TiCN多层膜截面形貌的影响 |
| 4.3.3 调制周期对Ti/TiCN多层膜沉积速率的影响 |
| 4.3.4 调制周期对Ti/TiCN多层膜晶体结构的影响 |
| 4.3.5 调制周期对Ti/TiCN多层膜力学性能的影响 |
| 4.3.6 调制周期对Ti/TiCN多层膜摩擦磨损性能的影响 |
| 4.4 本章小结 |
| 第五章 渗氮预处理复合电弧离子镀技术的研究 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 PN-PVD复合薄膜的制备 |
| 5.3 Cr12MoV钢渗氮层的组织和性能分析 |
| 5.3.1 Cr12MoV钢渗氮层微观组织的分析 |
| 5.3.2 Cr12MoV钢渗氮层机械性能的分析 |
| 5.4 渗氮预处理对TiCN薄膜和Ti/TiCN多层膜组织和性能的影响 |
| 5.4.1 渗氮预处理对TiCN薄膜和Ti/TiCN多层膜微观组织的影响 |
| 5.4.2 渗氮预处理对TiCN薄膜和Ti/TiCN多层膜力学性能的影响 |
| 5.4.3 渗氮预处理对TiCN薄膜和Ti/TiCN多层膜摩擦学性能的影响 |
| 5.5 本章小结 |
| 全文总结 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 |
| 致谢 |
| 附件 |
（7）TA19合金表面TiAlN硬质膜的制备及摩擦磨损行为研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 TA19 钛合金 |
| 1.2.1 TA19 钛合金的特点及应用 |
| 1.2.2 TA19 钛合金的研究进展及限制 |
| 1.3 耐磨涂层研究现状 |
| 1.3.1 激光熔覆技术 |
| 1.3.2 物理气相沉积(PVD)法 |
| 1.3.3 化学气相沉积(CVD)法 |
| 1.3.4 热喷涂技术 |
| 1.4 磁控溅射技术 |
| 1.4.1 基本原理 |
| 1.4.2 技术特点 |
| 1.4.3 技术发展 |
| 1.5 PVD硬质膜的发展 |
| 1.5.1 简单的二元氮化物 |
| 1.5.2 多组元金属氮化物硬质薄膜 |
| 1.6 课题的研究背景及研究内容 |
| 1.6.1 课题的提出 |
| 1.6.2 可行性分析 |
| 1.6.3 课题的研究内容 |
| 1.6.4 技术路线 |
| 第二章 实验材料、设备及方案 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 实验材料 |
| 2.3 实验设备 |
| 2.4 硬质薄膜性能测试与表征 |
| 2.4.1 薄膜表面形貌及结构分析 |
| 2.4.2 薄膜厚度测试 |
| 2.4.3 薄膜结合力测试 |
| 2.4.4 薄膜显微硬度测试 |
| 2.4.5 薄膜粗糙度测试 |
| 2.5 摩擦磨损试验 |
| 2.5.1 试验原理 |
| 2.5.2 试验方法 |
| 第三章 TiAlN薄膜的制备工艺参数研究 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 正交试验设计 |
| 3.2.1 工艺参数范围的选择 |
| 3.2.2 设计正交试验 |
| 3.3 正交试验结果与分析 |
| 3.3.1 不同工艺参数下TiAlN薄膜的截面形貌及成分分析 |
| 3.3.2 不同工艺参数下TiAlN薄膜的结合力分析 |
| 3.4 制备Ti AlN薄膜最佳工艺参数分析 |
| 3.5 本章小结 |
| 第四章 TiAlN薄膜的组织结构和力学性能分析 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 TiAlN薄膜的表面形貌及成分分析 |
| 4.3 TiAlN薄膜的截面形貌及成分分析 |
| 4.4 TiAlN薄膜的相结构 |
| 4.5 TiAlN薄膜的显微硬度 |
| 4.6 TiAlN薄膜的粗糙度 |
| 4.7 TiAlN薄膜的结合强度 |
| 4.8 本章小结 |
| 第五章 TiAlN薄膜的摩擦磨损性能研究 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 载荷因素对TiAlN薄膜摩擦行为的影响 |
| 5.2.1 摩擦系数 |
| 5.2.2 磨痕形貌 |
| 5.2.3 磨损率 |
| 5.2.4 磨损机理分析 |
| 5.3 速度因素对TiAlN薄膜摩擦行为的影响 |
| 5.3.1 摩擦系数 |
| 5.3.2 磨痕形貌 |
| 5.3.3 磨损率 |
| 5.3.4 磨损机理分析 |
| 5.4 温度因素对TiAlN薄膜摩擦行为的影响 |
| 5.4.1 摩擦系数 |
| 5.4.2 磨痕形貌 |
| 5.4.3 磨损率 |
| 5.4.4 磨损机理分析 |
| 5.5 本章小结 |
| 第六章 结论 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 攻读硕士学位期间研究成果及发表的学术论文 |
（8）钛靶受控阴极电弧的放电特性与大颗粒缺陷研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 研究背景与意义 |
| 1.2 阴极电弧蒸发镀膜 |
| 1.2.1 阴极电弧蒸发镀膜的发展 |
| 1.2.2 阴极电弧的大颗粒缺陷 |
| 1.3 国内外消除大颗粒的方法 |
| 1.3.1 遮挡屏蔽 |
| 1.3.2 电场抑制 |
| 1.3.3 工艺优化 |
| 1.3.4 磁场控制 |
| 1.4 本文主要研究内容 |
| 第二章 实验总述 |
| 2.1 实验装置 |
| 2.2 实验方法 |
| 2.3 表征方法 |
| 2.3.1 弧斑运动轨迹分析 |
| 2.3.2 磁场测量与模拟分析 |
| 2.3.3 涂层物性分析 |
| 2.4 小结 |
| 第三章 倾斜磁场永磁受控电弧源与弧斑运动行为分析 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 电弧源几何模型与磁场分析 |
| 3.2.1 电弧源的几何模型 |
| 3.2.2 永磁磁场模型及分析 |
| 3.3 电弧光斑图像采集系统组成 |
| 3.3.1 电弧光斑图像的读取 |
| 3.4 基于Matlab的光斑大小和位置分析算法 |
| 3.4.1 电弧光斑图像预处理 |
| 3.4.2 电弧光斑中心位置计算 |
| 3.5 不同弧流下的电弧光斑运动轨迹分析 |
| 3.6 小结 |
| 第四章 电磁耦合永磁受控电弧源及弧斑运动行为分析 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 电磁耦合永磁模型及磁场分析 |
| 4.2.1 电磁耦合永磁模型 |
| 4.2.2 不同线圈电流下弧源阴极表面磁场分布 |
| 4.3 电磁线圈电流对弧斑运动的影响 |
| 4.3.1 不同线圈电流下Ar气氛中Ti靶表面的弧斑运动 |
| 4.3.2 不同线圈电流下N2 气氛中Ti靶表面的弧斑运动 |
| 4.4 小结 |
| 第五章 弧源工艺参数对涂层表面大颗粒的影响 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 弧流对涂层表面大颗粒的影响 |
| 5.2.1 实验方法 |
| 5.2.2 弧流对制备Ti涂层表面大颗粒的影响 |
| 5.2.3 弧流对制备TiN涂层表面大颗粒的影响 |
| 5.3 电磁场电流对涂层表面大颗粒的影响 |
| 5.3.1 实验方法 |
| 5.3.2 线圈电流对制备Ti涂层表面大颗粒的影响 |
| 5.3.3 线圈电流对制备TiN涂层表面大颗粒的影响 |
| 5.4 小结 |
| 第六章 结论与展望 |
| 6.1 结论 |
| 6.2 展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 |
（9）YG10X硬质合金上磁控溅射沉积W-N硬质膜及其性能研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 刀具材料的演变与革新 |
| 1.2.1 刀具材料的消耗情况 |
| 1.2.2 硬质合金刀具材料 |
| 1.3 刀具涂层材料的发展 |
| 1.4 硬质涂层制备技术的发展 |
| 1.4.1 真空蒸镀 |
| 1.4.2 多弧离子镀 |
| 1.4.3 溅射镀膜 |
| 1.5 W-N硬质膜的研究现状 |
| 1.6 本论文的主要研究内容及意义 |
| 第二章 实验内容与方法 |
| 2.1 技术路线 |
| 2.2 基体材料的选择与前处理 |
| 2.3 薄膜的沉积过程 |
| 2.4 薄膜成分、结构和性能的表征 |
| 2.4.1 表面接触角和粗糙度 |
| 2.4.2 形貌分析 |
| 2.4.3 成分分析 |
| 2.4.4 物相结构分析 |
| 2.4.5 硬度测试 |
| 2.4.6 薄膜附着性能分析 |
| 2.4.7 薄膜的摩擦磨损性能分析 |
| 2.4.8 薄膜的耐蚀性能分析 |
| 第三章 靶功率对DCMS沉积W-N硬质膜的影响 |
| 3.1 前言 |
| 3.2 试样制备 |
| 3.3 薄膜成分、结构和性能的表征分析 |
| 3.3.1 接触角与表面粗糙度 |
| 3.3.2 薄膜的形貌分析 |
| 3.3.3 薄膜成分分析 |
| 3.3.4 薄膜的相结构 |
| 3.3.5 薄膜的断面分析 |
| 3.3.6 薄膜硬度与弹性模量 |
| 3.3.7 薄膜的附着性能 |
| 3.3.8 薄膜的耐磨性能 |
| 3.3.9 薄膜的耐蚀性能 |
| 3.4 本章小结 |
| 第四章 N_2/Ar对DCMS沉积W-N硬质膜的影响 |
| 4.1 前言 |
| 4.2 试样制备 |
| 4.3 薄膜成分、结构和性能的表征分析 |
| 4.3.1 表面粗糙度与接触角 |
| 4.3.2 薄膜的形貌分析 |
| 4.3.3 薄膜成分分析 |
| 4.3.4 薄膜的相结构 |
| 4.3.5 薄膜的断面分析 |
| 4.3.6 薄膜硬度与弹性模量 |
| 4.3.7 薄膜的附着性能 |
| 4.3.8 薄膜的耐磨性能 |
| 4.3.9 薄膜的耐蚀性能 |
| 4.4 本章小结 |
| 第五章 HIPAC技术沉积W-N硬质膜及其性能研究 |
| 5.1 前言 |
| 5.2 试样制备 |
| 5.3 薄膜成分、结构和性能的表征分析 |
| 5.3.1 表面接触角与形貌分析 |
| 5.3.2 薄膜成分和相结构分析 |
| 5.3.3 薄膜的断面分析与力学性能 |
| 5.3.4 薄膜的附着性能 |
| 5.3.5 薄膜的耐磨性能 |
| 5.3.6 薄膜的耐蚀性能 |
| 5.4 本章小结 |
| 结论与展望 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 |
| 致谢 |
| 附件 |
（10）TiCrN硬质膜组元配比对组织与性能的影响规律研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 氮化物硬质膜 |
| 1.1.1 二元氮化物硬质膜 |
| 1.1.2 三元氮化物硬质膜 |
| 1.2 TiCrN硬质膜的研究现状 |
| 1.3 本课题的研究目标和主要研究内容 |
| 1.3.1 本课题的研究目标 |
| 1.3.2 主要研究内容 |
| 第2章 试验材料及研究方法 |
| 2.1 试验设备 |
| 2.2 试验材料 |
| 2.2.1 靶材和基体的选取 |
| 2.2.2 基体材料预处理 |
| 2.3 TiCrN硬质膜的沉积方法及工艺制定 |
| 2.3.1 工艺参数对膜层的影响作用 |
| 2.3.2 TiCrN膜的沉积方法及工艺制定 |
| 2.4 TiCrN硬质膜的组织、成分及相结构测试 |
| 2.4.1 膜层组织与成分的测试 |
| 2.4.2 膜层的相结构测试 |
| 2.5 膜层硬度、结合力及抗热震性能测试 |
| 第3章 TiCrN硬质膜层表面与断面分析 |
| 3.1 TiCrN硬质膜表面成分 |
| 3.2 TiCrN硬质膜表面形貌及液滴 |
| 3.3 TiCrN硬质膜断面形貌 |
| 3.4 TiCrN硬质膜断面成分分布 |
| 3.5 本章小结 |
| 第4章 TiCrN硬质膜的相结构 |
| 4.1 TiCrN硬质膜的相组成及标定 |
| 4.2 Ti/Cr原子比对TiCrN择优生长晶面的影响 |
| 4.3 TiCrN硬质膜相结构及择优取向的再讨论 |
| 4.4 本章小结 |
| 第5章 TiCrN硬质膜的力学性能与热震性 |
| 5.1 Ti/Cr原子比对TiCrN硬质膜硬度的影响 |
| 5.2 TiCrN硬质膜的膜/基附着力与耐磨性 |
| 5.3 TiCrN硬质膜的抗热震性能 |
| 5.4 本章小结 |
| 第6章 结论 |
| 参考文献 |
| 在学研究成果 |
| 致谢 |
四、离子镀硬质膜技术的最新进展和展望（论文参考文献）
- [1]钛合金表面磁控溅射TiZrN涂层的制备及其性能研究[D]. 谭宇佳. 西安理工大学, 2021(01)
- [2]钛铝锆氮膜系硬度极值影响因素与分布规律研究[D]. 张驰. 沈阳大学, 2021(06)
- [3]手表装饰用氮化锆薄膜的制备及性能[J]. 刘海华,宋鹏涛,郭新刚,陈世佳,龚翔,罗晨,黄宝渝. 电镀与涂饰, 2020(14)
- [4]三组元氮化物硬质膜的硬度研究进展[J]. 徐晨宁,张钧,代佳艺,孙欣. 材料保护, 2020(06)
- [5]多弧离子镀制备CrWN/MoN纳米复合涂层及其性能研究[D]. 包改磊. 华南理工大学, 2019
- [6]Cr12MoV钢表面电弧离子镀TiCN膜及复合处理技术研究[D]. 刘恋. 华南理工大学, 2019(01)
- [7]TA19合金表面TiAlN硬质膜的制备及摩擦磨损行为研究[D]. 许莎莎. 南京航空航天大学, 2019(02)
- [8]钛靶受控阴极电弧的放电特性与大颗粒缺陷研究[D]. 陈仁德. 中国科学院大学(中国科学院宁波材料技术与工程研究所), 2018(01)
- [9]YG10X硬质合金上磁控溅射沉积W-N硬质膜及其性能研究[D]. 邓阳. 华南理工大学, 2017(07)
- [10]TiCrN硬质膜组元配比对组织与性能的影响规律研究[D]. 戴步实. 沈阳大学, 2016(05)