一、新型滤波提高光刻分辨率方法研究（论文文献综述）
王建[1]（2021）在《基于偏振调制的高精度焦面检测技术研究》文中指出芯片已成为信息社会发展的物质基础,其按照摩尔定律一直向着更细的特征尺寸、更大硅片尺寸的方向发展。光刻技术是芯片制造的核心手段,而更细的线条尺寸意味着光刻分辨力的提高,更大的器件尺寸则意味着更大的光刻曝光视场。从光刻技术的发展来看,提高光刻分辨力的主要路径是增大投影物镜的数值孔径（Numerical Aperture,NA）、缩短曝光波长和降低工艺因子。但无论是增大物镜NA还是缩短曝光波长均极大的缩短了光刻的有效焦深,因此在现代高精度投影光刻中,焦面检测与控制是其中的关键整机技术,是实现光刻成像的前提,是良率的重要保证。从国内外发展情况看,先进投影光刻技术一般要求需要实现几十纳米的焦面控制精度。现有焦面检测相关研究仅关注检测技术本身的精度,对系统性的光刻焦面控制的研究分析不足,造成相关研究成果光刻适应性不足;同时现有焦面检测技术多基于标记或者标记阵列的图像检测,检测精度受工艺条件影响较大,精度不足以支撑先进投影光刻技术,特别是极紫外光刻技术的发展。基于以上需求,本文围绕高精度焦面检测技术,开展了系统性的光刻系统焦面检测与控制技术研究。首先了光刻系统中焦面控制理论的研究,系统性的研究了在光刻体系中焦深与光刻性能的关系以及改善系统焦深的主要方法。然后针对先进投影光刻系统,研究了实际最佳焦面的定位方法及主要应用场景。在此基础上,开展高精度焦面检测技术研究,引入偏振调制,并开展极紫外真空环境适应性研究,完成了高精度极紫外光刻焦面检测系统的设计仿真。在相关项目支持下,建立了焦面检测系统,搭建了相关测试环境和测试平台,开展了焦面检测系统的实验验证,在极紫外真空环境下实现了量程>1mm、检测精度优于±3.9nm（3σ）的焦面检测能力,满足32nm分辨力极紫外光刻原理验证装置的焦面检测需求。为进一步探索焦面检测新技术,本文还开展了基于光栅剪切干涉的纳米级焦面检测方法研究,该方法基于共光路剪切干涉测量,无需参考面,测量环境敏感度较小,抗干扰能力较强,测量精度高;通过实验验证,获得了PV 28.1nm,RMS:9.8nm的检测精度,验证了该方法的可行性。最后,研究了焦面检测数据在光刻系统中的应用场景,分析了调平调焦过程的理论模型与方法。
洪青青[2]（2020）在《基于衍射轴锥镜的全息投影系统研究》文中认为在经典的全息投影系统中,借助空间光调制器（Spatial Light Modulator,SLM）对入射光波进行调制,仅在傅里叶透镜的焦平面形成清晰的重构图像。硅基液晶（Liquid Crystal on Silicon,LCoS）—作为SLM的一种,具有高像素填充率、尺寸小以及衍射效率高等优点。需要指出的是,上述全息投影系统中,当重构平面远离聚焦平面时,全息重构图像会变得越来越模糊,为了扩大全息投影系统重构图像在光场传播方向上的显示范围,许多研究者开展了多平面全息投影的研究工作。尝试了利用不同传播距离的菲涅耳相位全息图或可编程的菲涅耳相位透镜以得到多平面清晰的重建图像。但是上述方法需要调整可编程菲涅耳透镜的焦距或单独计算出相应的菲涅耳相位全息图,影响了系统的可扩展性。为了解决上述问题,本文尝试充分挖掘SLM自身具有的基于像素的可编程相位调制特性,灵活地编码实现大焦深特性衍射光学元件（Diffractive Optical Element,DOE）,通过与相位全息图结合共同调制入射光场。论文的主要研究工作及创新点总结如下:1)将轴锥镜的大焦深特性应用于全息投影,在沿着光场传播方向一段范围内均形成比较清晰的全息再现像。首先,利用迭代傅里叶算法生成相位全息图。通过在相位全息图上叠加轴锥镜相位形成新的相位分布,加载至纯相位调制的LCoS上,建立基于轴锥镜的全息投影系统。利用LCoS的可编程性,可以设置不同的轴锥镜参数。以准直后的激光为光源入射LCoS,沿着光场传播方向观测距离焦平面不同位置处的全息再现像。实验结果表明,与基于菲涅尔透镜的全息投影系统相比,通过设定轴锥镜的起始焦距和焦深等参数,可以在一段范围内的连续平面上观察到较为清晰的全息再现像。2)采用LCoS可以实现动态地加载纯相位全息图,然而,由于受到空间带宽积的限制,对于设计具有较小像素特征尺寸的衍射元件存在困难。因此在本文中,进一步使用激光直写系统来制备所需的衍射相位元件（Diffraction Phase Element,DPE）。首先,利用计算机将轴锥镜的相位分布进行相位压缩处理得到衍射轴锥镜,在模拟实验中将生成的相位全息图与衍射轴锥镜的相位分布进行叠加,形成新的相位分布进而观察沿光轴传播方向的菲涅尔衍射再现象的相对强度分布。然后,利用激光直写光刻技术在光刻胶基板上曝光形成所需DPE,在光刻胶中实现了有限的量化相位（台阶数m=2,m=4）。通过对比实验,分别观察了在相位全息图上叠加衍射轴锥镜相位和衍射菲涅耳透镜相位后的重建图像。实验结果表明,在全息投影系统中使用制备的DPE可以在一段范围内的连续平面上同时观察到近似清晰的全息图像。由于激光直写系统可以通过控制曝光量在光刻胶表面制作出所需的光刻结构,并且该系统结构简单,运行稳定,进一步简化了全息投影系统。
吴青峻[3]（2020）在《基于表面等离子激元的反射式颜色滤波器的研究》文中研究指明颜色滤波器,作为一种常见的光学器件,通过对特定波长可见光的通过或截止来实现波长选择功能,使其呈现不同颜色,而颜色滤波器通常可分为反射式颜色滤波器与透射式颜色滤波器两大类。传统颜色滤波器主要采用有机染料或化学颜料制备而成,其由于受到光学衍射极限的限制,最高分辨率存在极限,无法进一步提高;并且在高温和紫外照射下,存在不稳定、易失效的问题。近年来,基于表面等离子激元的颜色滤波器引起了人们的广泛关注,其高分辨率、高稳定性等特点使之成为一种很有前景的研究方向。其中反射式颜色滤波器由于其在彩色印刷、安全防伪以及光信息储存等领域广泛的应用前景,受到了研究人员的高度关注。本文针对基于表面等离子激元的反射式颜色滤波器开展了一系列研究,以期实现反射式颜色滤波器滤波性能的提升以及制备手段的扩展。首先,本文对于表面等离子激元的基本原理进行了介绍与推导,分析了金属的Drude模型,表面等离子激元的色散关系、特征参数、耦合方式与基本分类,为后续研究提供了理论基础;与此同时,论述和分析了常见的微纳结构制备和表征技术以及它们的优缺点和适用条件,为后续研究打下了实验基础。其次,本文提出了一种基于二维银纳米圆柱周期阵列结构的反射式颜色滤波器,其具有反射率高、偏振不敏感、结构简单、颜色调控范围大等优势。该颜色滤波器主要由负性光刻胶HSQ圆柱、其上的银纳米圆盘以及银膜组成。本文通过时域有限差分方法（FDTD）对于该新型反射式颜色滤波器进行了数值模拟,仿真研究了不同结构参数对于颜色滤波性能的影响,以及该颜色滤波器中各部分结构在颜色滤波中所起的作用。随后选取合适参数对其进行了实验制备,通过实验与仿真结果的对比分析,证明了该颜色滤波器的可行性以及仿真研究的可靠性。然后,本文提出了一种基于二维银纳米圆柱随机阵列结构以实现角度不敏感的反射式颜色滤波器。该颜色滤波器通过消除结构的周期性,以局域型表面等离子激元为主导进行颜色调控,实现了颜色滤波器的角度不敏感特性。通过对纳米圆柱二聚体结构的FDTD仿真研究,分析在不同间距条件下主导电磁场调控的表面等离子激元类型,以确定随机阵列的设计策略。根据确定的策略,设计基于随机阵列结构的反射式颜色滤波器,并对其进行了 FDTD仿真研究和实验制备。通过不同入射角度的仿真分析,验证了该颜色滤波器在入射角高达70°的情况下,依然保有良好的颜色稳定性,具备角度不敏感特性;并依据上述方法,成功制备了浙江大学中英文彩色标识图案,验证了其实际应用的可行性与前景。随后,本文提出了一种基于同步辐射软X射线光刻技术与泰伯效应,通过消色差泰伯光刻技术实现快速大面积制备反射式颜色滤波器的方法。文章对于同步辐射光源以及同步辐射软X射线光刻系统进行了简述,并介绍了泰伯效应与消色差泰伯光刻技术。论述了消色差泰伯光栅的制备流程并进行了实际制备,随后用其光刻制备了二维银纳米圆柱反射式颜色滤波器,制备速度比常用微纳制备手段提高了两个数量级。该制备方法具有曝光分辨率高、单次曝光面积大、光源利用效率高等优点,为今后大规模批量制备高分辨率的基于表面等离子激元的颜色滤波器提供了可能。最后,对本文的研究内容和成果进行了总结。并针对研究存在的部分问题以及反射式颜色滤波器今后的发展方向提出了展望。
张明[4]（2019）在《基于反射型超表面的电磁调控器原理及制备技术研究》文中指出电磁波调控技术在现代社会中发挥着重要的作用,人们通过设计材料或器件对电磁波的产生、传播以及接收进行调制。随着微纳加工技术与材料科学的不断发展与完善,逐渐兴起了基于人工亚波长结构（也被称为超材料）的电磁波调控研究新领域。超材料具有优异的电磁调控特性,能够在亚波长尺度下对电磁波的振幅、相位和偏振态进行有效地操纵,极大地拓展了电磁波与物质之间的相互作用形式。近年来,超表面——一种特殊的二维超材料——具有轻薄、易加工的特性,成为了超材料和电磁调控领域新的发展方向和研究热点之一,在传感、成像、隐身及光信息传输与存储等领域具有广泛的应用前景。论文在国家973计划和国家自然科学基金等项目的资助下,对超表面电磁调控原理及微纳工艺制备技术开展了较为深入的研究。针对目前超表面电磁调控器在各工作频段中存在的调控效率低、带宽调制受限、功能固定以及工艺制备难度大等问题,提出了基于反射型超表面的电磁调控器结构,并通过引入特殊谐振模式、设计方法、相变材料和微纳加工技术,较为深入地研究了电磁波的高效调控,带宽灵活调制、可调波前调控以及相应的加工技术等。论文的主要研究工作和取得的创新性成果包括:（1）分析了Fano共振及窄带吸收原理,提出了一种通过在超表面结构中引入不对称性产生Fano共振降低金属辐射损耗,实现超窄带吸收的方法。基于此原理,设计了一种近红外超窄带完美吸收器,进行了仿真验证,并探讨了窄带吸收器的传感特性。（2）基于悬链线场理论和传输线理论,建立了超表面电磁器件的数理模型,提出了一种数值计算方法简化超表面器件的设计。结合色散调控理论开展了宽带调制的研究,设计了基于多层超表面结构的吸收器,实现太赫兹超宽带高效吸收,并对其进行了实验验证。（3）结合阴影沉积法和SP光刻技术提出了一种微纳工艺制备方法,开展了具有纳米尺度特征尺寸的超表面电磁调控器的大面积、低成本工艺制备研究。作为验证,设计了基于100nm线宽二维金属狭缝的柔性跨波段调控材料,利用提出的制备技术实现了大面积工艺制备,并对制备的柔性材料进行实验测试,验证了跨波段电磁调控特性。（4）结合相变材料与波前调控超表面提出了一种可调光学器件的设计方法。基于此方法,在近红外波段和中红外波段仿真设计了相变材料不同状态下具有电磁响应差异的超表面单元以及功能可调的光学器件,并在中红外波段对其进行了制备与表征,验证设计的器件具备可调的特性。
管峰[5]（2018）在《盘式磁流变抛光关键技术研究》文中进行了进一步梳理随着科学技术的不断发展,空间光学、天文光学、惯性约束聚变以及极紫外光刻等高技术领域对光学系统的要求不断提高。光学元件作为光学系统中的关键零部件,其表面的不同频段误差会不同程度地影响光学系统的性能。为满足光学元件表面全频段误差可控加工需求,各种不同原理的光学加工方法层出不穷,并不断地向着高效率、高精度和高加工表面质量等方向发展。本文综合磁流变抛光和小磨头抛光技术的技术优势,提出了盘式磁流变抛光方法,并对其关键技术开展相关研究,以满足高精度光学元件对新抛光方法的迫切需要。本文主要围绕盘式磁流变抛光装置的设计与性能优化、抛光机理及数学模型、分别以“高效率”和“高表面质量”为目标的工艺参数优化、面形误差快速收敛和表面质量快速提升等方面开展相关的理论和实验研究。研究为光学镜面的高效率和高表面质量加工提供了新的方法和途径。具体内容包括以下几个方面:（1）盘式磁流变抛光装置设计及性能优化。在对盘式磁流变抛光系统整体设计的基础上,从提高材料去除效率、简化结构并降低成本等方面出发,完成了永磁式励磁装置的设计,使之能形成高梯度磁场。采用有限元分析方法对励磁装置的周围磁场进行磁静态仿真,并对励磁装置的结构参数进行多目标参数优化研究,从而完成了抛光区域磁场分布的优化。（2）盘式磁流变抛光材料去除效率研究。分析了盘式磁流变抛光材料去除机理,基于磁流变液与工件表面之间的正应力和剪切应力分析,建立了盘式磁流变抛光去除函数数学模型。研究了关键参数对材料去除效率及其稳定性的影响规律,确定了高材料去除效率对应的最优关键参数。采用MATLAB仿真加工方法研究了材料去除效率稳定性对光学镜面面形误差收敛效率的影响规律。（3）盘式磁流变抛光表面质量研究。分析了盘式磁流变抛光盘与工件表面之间的相对运动轨迹以及表面形貌的形成机理,建立了表面粗糙度预测数学模型。以此为基础,对给定初始表面的表面轮廓演变过程进行仿真计算。研究了关键参数对表面粗糙度的影响规律,确定了高表面质量对应的最优关键参数。采用最优关键参数对K9玻璃、单晶硅和熔石英等材料进行盘式磁流变抛光,研究了抛光前后表面粗糙度、表面元素含量以及表面光热弱吸收水平的变化规律。（4）盘式磁流变抛光加工实验验证。在前述研究的基础上,开展了面形误差的快速收敛和表面质量的快速提升实验。分析了去除函数的修形能力,并开展了基于面形滤波工艺的Ф350 mm K9玻璃表面迭代加工实验。开展了Ф100 mm单晶硅表面均匀抛光实验,并研究了抛光前后表面形貌的演变规律。通过抛光加工实验,综合验证了本文的研究结论。
刘洪超[6]（2018）在《基于表面等离子体的超分辨干涉光刻原理和方法研究》文中认为微纳结构因其具有新颖的光学特性在纳米光电子领域得到了广泛应用。作为常用的微纳结构加工方法,传统激光干涉光刻技术由于受衍射极限的限制,光刻分辨率无法超越四分之一波长。该问题可通过采用更短波长的光源解决,但昂贵的光源限制了该方法的大规模应用。表面等离子体,作为一种超衍射电磁模式,其传输波长远小于相同光子频率下的真空波长。因而,表面等离子体干涉条纹周期将远小于激光干涉条纹周期,表面等离子体干涉光刻技术的分辨率将减小至百纳米以下量级,甚至达到32nm光刻节点,这将为微纳光电子功能器件制备提供一种较为廉价的加工方案。本论文利用表面等离子体波的超衍射特性,开展了突破衍射极限的超分辨深亚波长干涉光刻原理和实验研究。本论文主要内容可以分为三个部分:采用Al/SiO2多层膜构成的双曲色散材料实现深亚波长BPPs（Bulk plasmon polaritons）干涉光刻;设计了并验证了基于BPPs的周期可调的深亚波长干涉光刻;实现了基于Al-PR-Al结构的SPs（Surface plasmon polaritons）干涉光刻。具体的研究内容如下:1.基于BPPs的固定周期缩小干涉光刻。Al/SiO2多层膜结构构成的双曲色散材料具有通带形式的光学透过函数,能够实现特定频率光波的筛选。由激发光栅所激发的、满足波矢匹配的衍射级次,可以透过色散材料并在光刻胶内形成大面积、周期性的深亚波长干涉图形。为了提高基于双曲色散材料的干涉光刻中光强效率,我们引入了介质光栅耦合和Al反射场增强技术,同时分析了影响光刻胶内干涉图形均匀性的因素。最后在圆偏光入射情况下,激发四束、六束BPPs,实现了多样化周期性干涉图形的理论仿真,并实验验证了35nm线宽图形的制备工艺。这种基于双曲色散材料的BPPs干涉光刻推动了近场超分辨干涉光刻的发展,在大面积、周期性微纳结构的制备方面具有潜在的应用价值。2.基于BPPs的周期可调的干涉光刻研究。传统干涉光刻具有周期可调的优势,但却受制于衍射极限分辨率仅为1/4波长。而对于固定结构的SP光刻,由于激发模式的固定,光刻的分辨率也是固定的无法任意调节。本文中,我们提出了一种基于BPPs的周期可调的深亚波长干涉光刻。通过简单地调节入射角度,BPPs模式的波矢也可以实现连续调节,并透过双曲色散结构形成周期可调的干涉图案。这种方法克服了传统SP光刻中周期不能灵活调节的缺陷,同时可以达到深亚波长尺寸的光刻线宽分辨率,扩展了灵活制备周期性微纳结构的方法。3.深亚波长SP干涉光刻研究。本文提出了基于Al-PR-Al结构的分离式SP干涉光刻,实验上获得了32nm线宽的周期性光刻图形。该分离式干涉光刻方法,一方面降低了光刻工艺难度,另一方面延长了掩模的使用寿命,可实现光刻成本的有效控制。
周子涵[7]（2018）在《双红外带通频率选择表面滤波机理研究》文中提出光学窗电磁屏蔽技术在精密光电探测仪器、空间探测设备与无线通信设备等领域均有重要的应用前景。空间内电磁干扰与微波武器可以使飞行器“致盲”从而使其失效。某些微波设备工作时产生的微波也会对人身体造成伤害。频率选择表面技术是解决这一问题比较理想的方法,目前的频率选择表面难以在具备强电磁屏蔽效率的同时满足多波长红外探测器的滤波需求。因此,设计一种新型的具备强电磁屏蔽效率的双红外带通频率选择表面对国防等领域均具有重要意义。针对上述问题,本文通过对带通频率选择表面滤波机理的研究,基于多周期单元混合设计方法提出了一种新型频率选择表面结构,并对其红外滤波特性与电磁屏蔽特性进行深入的理论与实验研究,主要内容如下:1.采用时域有限差分法建立理论分析模型并分析圆形孔径与圆环形孔径频率选择表面各尺寸参数对红外透射特性的影响。利用频率选择表面分析模型分别对圆形孔径频率选择表面以及圆环形孔径频率选择表面的尺寸参数对其红外透射特性的影响进行深入研究。2.设计一种新型双红外带通频率选择表面结构,优化设计其结构参数,仿真分析其滤波特性及规律。为解决频率选择表面同时具有双红外带通以及强电磁屏蔽特性的问题,基于多周期单元混合设计方法提出了一种新型的双红外带通频率选择表面结构,通过时域有限差分方法分析了该结构的红外波段的双带通滤波特性,并对其尺寸参数进行优化。3.建立双红外带通频率选择表面的等效电路模型,利用该模型分析本课题设计频率选择表面在Ku波段的电磁屏蔽效率。对Langley等效电路模型进行改进,并基于改进后的Langley等效电路模型以及Parisa等效电路模型,建立了双红外带通频率选择表面等效电路模型,通过该模型计算得到了本文设计的频率选择表面在Ku波段的电磁屏蔽效率曲线,并利用该模型对本文设计的频率选择表面结构的圆环外径、圆环内径等尺寸参数在Ku波段对电磁屏蔽效率的影响进行了深入的分析。4.加工双红外带通频率选择表面样片,实验验证其强电磁屏蔽特性与双红外带通特性。采用傅里叶红外光谱分析仪与矢量网络分析仪对样片的红外透射特性与电磁屏蔽特性进行测试。测试结果表明样片的Ku波段电磁屏蔽性能优于38dB,并在红外波段出现两个通带,其谐振波长分别为2.66μm和17.82μm,透光率分别为67.07%与64.67%。综上,本文设计的双红外带通频率选择表面实现了强电磁屏蔽效率和双红外带通滤波功能。
艾斌[8]（2017）在《亚像素扫描调制系统参数优化研究》文中指出微光学元件目前在光信息处理、光通信、微光学传感器,超精细加工等许多光学领域方面获得了越来越广泛地应用。微结构光学器件正向微型化、阵列化等方向发展,器件的尺寸要求变得越来越小,相应地使得制作微光学元件的方法要求越来越高。鉴于制作微光学元件技术需要克服光刻技术效率不高,提高分辨率等研究问题,提出了一种基于DMD数字掩模制作技术制作微光学元件的新方法。本文通过对基于DMD数字掩模制作技术理论研究,通过实验仿真对倾斜角度theta和扫描步长等实验参数的匹配优化研究,实现了改善分辨率的可行性,并且探究二者误差对成像质量的影响,为探索微光学元件的制作方法提供一条新的途径。论文的主要研究工作如下:1、详细研究了亚像素扫描调制光刻技术的原理,以及单方向扫描调制数字掩模提高分辨率的机理。分别设计了几种优化的数字掩模,包括二元光栅掩模、微透镜掩模和微透镜阵列掩模,通过仿真上述掩模沿不同倾斜角单方向移动积累的曝光量来验证亚像素扫描调制光刻技术,从而改善光刻成像质量的可行性。2、搭建了亚像素扫描调制光刻系统,详细介绍了各个光学部件在整个光路系统中所起的作用以及光路调整方法,并对光刻系统中的光源参数、扫描参数等做了一定的优化。通过仿真实验得出了最优扫描参数的匹配,即扫描步长和倾斜角度之间的优化匹配。3、通过大量的实验研究,深入摸索了实验工艺,探究了不同参数以及不同的实验条件对制作结果的影响,获得了较好的实验工艺参数。
胡进,董晓轩,浦东林,申溯,陈林森[9]（2015）在《基于闪耀光栅图形化实现高分辨率干涉光刻》文中研究说明为提高图形化干涉光刻质量,提出了基于闪耀光栅的图形化干涉光刻（PIIL）系统,并对该系统所采用的光学原理和实现方法进行了研究。首先,分析了图形化干涉光刻系统的光场特性,阐述了其分辨率提升的原理。讨论了光学系统带宽和图案分布对光刻图形质量的影响,给出了图形质量控制的工艺方法。其次,提出了一种新型的图形化干涉光刻方法,该方法采用闪耀光栅作为衍射分光器件,实现了位相和振幅的一体化调制。采用数值计算方法模拟了闪耀光栅的衍射特性和像面光场分布,讨论了闪耀光栅的优化设计方法,获得了高达92.3%的±1级衍射效率。最后,基于数字微镜器件（DMD）和微缩成像光路设计开发了图形化干涉光刻系统,实验获得了像素化的点阵图形和质量明显改善的光刻图像,验证了该方法对任意图形的适用性。
郭庆龙[10]（2015）在《超像素调制数字光刻分辨率增强技术研究》文中研究说明无掩模数字光刻技术的发展,给光刻领域带来了极大的创新。它的技术原理是在DMD微镜上显示数字掩模图形,可以有效的避免掩模版制作昂贵的问题。但是数字光刻技术在制作微光学器件的过程中,会出现制作结构不工整,边缘不光滑,光刻分辨率低下等问题。鉴于以上原因,依据DMD数字光刻技术的原理特性,本论文提出了超像素调制光刻技术,主要研究了轴向超像素调制和多像素移动调制两种方法,目的在于提高数字光刻分辨率,改善数字光刻成像质量。1.轴向超像素调制光刻方法,是基于图形像素的细分,通过DMD单个微镜在基底形成子像素,然后沿轴向移动叠加子像素,即形成超像素阵列,从而提高光刻分辨率。具体技术思路是将DMD上的掩模信息通过精缩物镜投影到位于基底的光刻胶上,该基底是由步长较小的步进电机驱动,DMD的掩模图像是由计算机灵活控制,从而实现以轴向超像素的移动方式进行曝光调制。本论文首先介绍了该方法的技术原理,并进行了原理仿真。再根据其技术特点,搭建了轴向超像素调制光刻系统,最后开展了大量验证性实验,证明了轴向超像素调制光刻方法改善数字光刻成像质量的可行性。2.多像素移动调制光刻方法,是将灰阶图像通过精缩物镜成像在涂敷了光刻胶的基底上,而基底与DMD平面成一定角度,通过移动二维工件台,并自由切换DMD上的显示图像,在基底上以多像素移动的方法进行曝光调制,目的是得到更小光刻分辨率的微结构。这种方法是利用图形多像素的细分原理,通过单个微镜在基底形成相同大小的子像素,然后移动叠加子像素形成多像素整列,从而改善成像质量。在具体研究中,首先从理论上对该方法进行了原理分析;然后利用多像素移动调制的特点,自行设计了一套可以自由驱动基底偏转,以任意角度移动的光刻系统。最后以制作微透镜为例,提出了多像素移动调制光刻数字掩模的设计方法,从而验证了该方法可以改善数字光刻成像质量的可行性。
二、新型滤波提高光刻分辨率方法研究（论文开题报告）
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、新型滤波提高光刻分辨率方法研究（论文提纲范文）
（1）基于偏振调制的高精度焦面检测技术研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 研究背景与意义 |
| 1.2 光刻技术的发展 |
| 1.2.1 无掩模光刻 |
| 1.2.2 有掩模光刻 |
| 1.3 光学投影光刻焦面检测技术概述 |
| 1.4 焦面检测技术发展现状 |
| 1.4.1 光度检焦技术 |
| 1.4.2 标记阵列检测检焦技术 |
| 1.4.3 其他检测技术 |
| 1.4.4 国内检焦技术现状 |
| 1.4.5 检焦技术小结 |
| 1.5 研究内容及论文结构 |
| 第2章 光刻系统焦面控制理论研究 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 光刻系统中焦面控制的基本概念 |
| 2.3 光刻系统中焦深的主要影响因素 |
| 2.3.1 投影物镜成像质量 |
| 2.3.2 投影物镜动力学稳定性 |
| 2.3.3 投影物镜热性能 |
| 2.3.4 硅片地形 |
| 2.3.5 工艺因素 |
| 2.4 焦深对光刻性能的影响 |
| 2.4.1 焦深与光刻分辨力 |
| 2.4.2 焦深与CDU |
| 2.4.3 离焦与综合像质检测 |
| 2.5 提高焦深的主要方法 |
| 2.5.1 分辨力增强技术光学原理 |
| 2.5.2 OAI优化成像性能的光学原理 |
| 2.5.3 离轴照明的实现方法 |
| 2.6 本章小结 |
| 第3章 光刻系统焦面定位方法研究 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 空间像传感器定位方法 |
| 3.2.1 TIS工作原理 |
| 3.2.2 焦面定位测量方法 |
| 3.3 哈特曼传感器定位方法 |
| 3.3.1 哈特曼传感器工作原理 |
| 3.3.2 焦面定位测量方法 |
| 3.4 曝光定位方法 |
| 3.4.1 曝光能量测试 |
| 3.4.2 曝光窗口工艺实验 |
| 3.4.3 曝光面焦面调平 |
| 3.5 三种测量方法优缺点比较 |
| 3.6 本章小结 |
| 第4章 基于偏振调制的焦面检测方法研究 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 大量程高精度焦面检测系统研究与分析 |
| 4.3 大量程粗检焦方法研究 |
| 4.3.1 光学原理 |
| 4.3.2 狭缝像位置处理方法 |
| 4.4 基于叠光栅空间像剪切偏振调制的精检焦方法研究 |
| 4.4.1 叠光栅空间像剪切检测方法 |
| 4.4.2 叠光栅偏振调制方法 |
| 4.4.3 电光调制原理 |
| 4.4.4 自动调零方法 |
| 4.5 本章小结 |
| 第5章 基于偏振调制检焦系统设计 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 系统设计 |
| 5.3 光学设计 |
| 5.3.1 照明模块设计 |
| 5.3.2 光路转折设计 |
| 5.3.3 Savart板设计 |
| 5.3.4 检焦成像系统设计 |
| 5.3.5 精检焦探测光路设计 |
| 5.4 机械设计 |
| 5.4.1 总体设计 |
| 5.4.2 关键部件设计 |
| 5.5 电控设计 |
| 5.5.1 设计要求 |
| 5.5.2 干扰分析及抑制 |
| 5.5.3 系统模块概述 |
| 5.5.4 单元电路设计与分析 |
| 5.6 设计精度计算 |
| 5.6.1 粗检焦 |
| 5.6.2 精检焦 |
| 5.7 本章小结 |
| 第6章 高精度焦面检测系统实验验证 |
| 6.1 引言 |
| 6.2 焦面检测平台搭建 |
| 6.2.1 真空系统搭建 |
| 6.2.2 运动台系统搭建 |
| 6.2.3 环境控制 |
| 6.3 焦面检测平台主要性能 |
| 6.4 实验结果及精度分析 |
| 6.4.1 实验验证 |
| 6.4.2 精度讨论 |
| 6.5 本章小结 |
| 第7章 基于光栅剪切干涉的纳米级检焦方法研究 |
| 7.1 引言 |
| 7.2 检测理论分析 |
| 7.3 实验验证 |
| 7.4 结果分析 |
| 7.5 本章小结 |
| 第8章 调平调焦模型研究 |
| 8.1 引言 |
| 8.2 曝光视场内硅片姿态解算模型 |
| 8.3 整场调平调焦模型研究 |
| 8.3.1 整场调平调焦定义 |
| 8.3.2 整场调平方法 |
| 8.3.3 逐场调焦方法 |
| 8.4 逐场实时调平调焦模型研究 |
| 8.4.1 逐场调平调焦和实时调平调焦定义 |
| 8.4.2 传感器布局 |
| 8.4.3 工件台逐场/实时调平调焦测量模型 |
| 8.4.4 调平调焦运动模型 |
| 8.4.5 调平调焦控制模型 |
| 8.5 本章小结 |
| 第9章 总结与展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 |
（2）基于衍射轴锥镜的全息投影系统研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 研究背景和意义 |
| 1.2 国内外研究现状 |
| 1.3 论文主要研究内容 |
| 第二章 基础理论 |
| 2.1 标量衍射理论 |
| 2.1.1 基尔霍夫衍射理论 |
| 2.1.2 菲涅尔衍射与夫琅禾费衍射 |
| 2.1.3 角谱传播理论 |
| 2.2 无衍射零级贝塞尔光束 |
| 2.3 轴锥镜的相位函数 |
| 第三章 基于可编程轴锥镜的全息投影 |
| 3.1 全息投影基本原理 |
| 3.2 空间光调制器的成像分析 |
| 3.3 轴锥镜的聚焦特性分析 |
| 3.4 轴锥镜应用于全息投影系统 |
| 3.5 光学实验 |
| 3.6 本章小结 |
| 第四章 基于激光直写技术制备衍射轴锥镜 |
| 4.1 激光直写系统 |
| 4.2 衍射轴锥镜 |
| 4.3 衍射轴锥镜应用于全息投影系统 |
| 4.4 实验结果分析 |
| 4.5 本章小结 |
| 结论 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士期间取得的学术成果 |
| 致谢 |
（3）基于表面等离子激元的反射式颜色滤波器的研究（论文提纲范文）
| 致谢 |
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 1 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 表面等离子激元的发展历史与研究现状 |
| 1.3 基于表面等离子激元的颜色滤波器的研究进展 |
| 1.4 本文的研究目的及意义 |
| 1.5 本文的主要研究内容及成果 |
| 2 表面等离子激元相关原理及微纳结构制备表征技术 |
| 2.1 表面等离子激元的基本原理 |
| 2.1.1 金属的Drude模型 |
| 2.1.2 表面等离子激元的色散关系 |
| 2.1.3 表面等离子激元的特征参数 |
| 2.1.4 表面等离子激元的耦合方式 |
| 2.1.5 表面等离子激元的分类 |
| 2.2 微纳结构制备及表征技术 |
| 2.2.1 微纳结构的制备技术 |
| 2.2.2 微纳结构的表征技术 |
| 3 二维银纳米圆柱阵列反射式颜色滤波器的研究 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 银纳米阵列反射式颜色滤波器的模型简述 |
| 3.3 银纳米阵列反射式颜色滤波器的仿真研究 |
| 3.3.1 银纳米阵列反射式颜色滤波器的仿真条件设置 |
| 3.3.2 滤波性能的直观表现—色度图 |
| 3.3.3 结构参数对颜色滤波器性能影响的仿真研究 |
| 3.4 银纳米阵列反射式颜色滤波器的实验研究 |
| 4 角度不敏感反射式颜色滤波器的研究 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 基于纳米圆柱二聚体的局域表面等离子激元效应仿真研究 |
| 4.3 随机二维纳米圆柱阵列反射式颜色滤波器的仿真及实验研究 |
| 5 快速大面积制备反射式颜色滤波器的研究 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 同步辐射光源与同步辐射软X射线光刻系统 |
| 5.3 泰伯效应与消色差泰伯光刻技术 |
| 5.4 基于消色差泰伯光刻技术快速大面积制备反射式颜色滤波器的研究 |
| 6 总结与展望 |
| 6.1 总结 |
| 6.2 展望 |
| 参考文献 |
| 作者简介 |
| 博士期间发表论文情况及其他研究成果 |
（4）基于反射型超表面的电磁调控器原理及制备技术研究（论文提纲范文）
| 中文摘要 |
| 英文摘要 |
| 1 绪论 |
| 1.1 研究背景和意义 |
| 1.2 超表面电磁调控器件概述 |
| 1.2.1 超表面结构的电磁调控特性 |
| 1.2.2 超表面电磁调控器件的分类 |
| 1.3 国内外研究现状 |
| 1.3.1 频谱调控型超表面电磁调控器件 |
| 1.3.2 波前调控型超表面电磁调控器件 |
| 1.4 存在的问题及主要研究内容 |
| 1.5 论文组织架构 |
| 1.6 本章小结 |
| 2 超表面电磁调控器件的理论基础 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 超表面电磁调控的基本理论 |
| 2.2.1 金属材料色散模型 |
| 2.2.2 表面等离子体共振 |
| 2.2.3 局域相位调控 |
| 2.3 超表面设计和分析方法 |
| 2.3.1 等效阻抗法 |
| 2.3.2 传输线理论 |
| 2.3.3 数值计算方法 |
| 2.4 超表面器件的实验制备及表征方法 |
| 2.5 本章小结 |
| 3 基于Fano共振的窄带吸收 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 窄带吸收器设计方法 |
| 3.2.1 超表面吸收器机理 |
| 3.2.2 Fano共振 |
| 3.3 窄带吸收器仿真设计 |
| 3.3.1 结构设计与分析 |
| 3.3.2 结构参数对吸收特性的影响 |
| 3.4 窄带吸收器的传感特性研究 |
| 3.5 本章小结 |
| 4 基于悬链线场理论的超表面设计方法及宽带调制 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 悬链线场理论及宽带调制方法 |
| 4.2.1 超表面波 |
| 4.2.2 悬链线电场分布 |
| 4.2.3 色散调控及带宽拓展 |
| 4.3 太赫兹宽带吸收器设计 |
| 4.3.1 宽带吸收器结构设计 |
| 4.3.2 宽带吸收器理论分析 |
| 4.3.3 宽带吸收器性能分析 |
| 4.4 太赫兹宽带吸收器的制备与测试 |
| 4.4.1 工艺制备 |
| 4.4.2 性能表征 |
| 4.5 本章小结 |
| 5 大面积纳米超表面器件工艺制备 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 大面积纳米超表面器件制备方法 |
| 5.2.1 阴影沉积 |
| 5.2.2 近场光学曝光技术 |
| 5.3 跨波段调控材料的工艺制备及电磁特性 |
| 5.3.1 跨波段调控材料的工艺制备 |
| 5.3.2 跨波段调控材料的电磁特性 |
| 5.4 跨波段调控材料的性能表征 |
| 5.5 本章小结 |
| 6 基于相变材料的可调光学器件 |
| 6.1 引言 |
| 6.2 可调波前调控设计方法 |
| 6.2.1 几何相位 |
| 6.2.2 相变材料GST |
| 6.3 可调光学器件设计 |
| 6.3.1 可调超表面单元结构设计 |
| 6.3.2 近红外可调光学器件设计 |
| 6.3.3 中红外可调光学器件设计 |
| 6.4 可调光学器件的实验验证 |
| 6.4.1 工艺制备 |
| 6.4.2 实验表征 |
| 6.4.3 GST相变 |
| 6.5 本章小结 |
| 7 总结与展望 |
| 7.1 主要工作总结 |
| 7.2 研究工作展望 |
| 参考文献 |
| 附录 |
| A.作者在攻读学位期间发表的论文目录 |
| B.作者在攻读学位期间取得的科研成果 |
| C.作者在攻读博士学位期间参加的科研项目 |
| D.学位论文数据集 |
| 致谢 |
（5）盘式磁流变抛光关键技术研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 课题来源及意义 |
| 1.1.1 课题来源 |
| 1.1.2 课题研究背景和意义 |
| 1.2 光学镜面修形抛光方法研究现状 |
| 1.2.1 确定性抛光方法 |
| 1.2.2 新型磁流变抛光方法 |
| 1.3 光学镜面磁流变抛光关键技术问题 |
| 1.3.1 励磁装置设计及优化 |
| 1.3.2 去除函数建模及其稳定性 |
| 1.3.3 工艺参数优化 |
| 1.4 研究思路与主要内容 |
| 1.4.1 研究思路 |
| 1.4.2 研究内容 |
| 第二章 盘式磁流变抛光装置设计及磁场性能优化 |
| 2.1 盘式磁流变抛光技术概述 |
| 2.1.1 磁流变抛光和小磨头抛光技术特点 |
| 2.1.2 盘式磁流变抛光基本原理 |
| 2.2 盘式磁流变抛光系统设计 |
| 2.3 盘式磁流变抛光磁场分析与优化 |
| 2.3.1 励磁装置设计 |
| 2.3.2 永磁铁单元磁场仿真 |
| 2.3.3 永磁铁单元磁场性能优化 |
| 2.3.4 抛光盘表面磁场分布测试 |
| 2.4 本章小结 |
| 第三章 盘式磁流变抛光材料去除效率研究 |
| 3.1 盘式磁流变抛光材料去除机理及其数学模型 |
| 3.1.1 材料去除机理 |
| 3.1.2 材料去除数学模型 |
| 3.2 盘式磁流变抛光材料去除效率影响规律研究 |
| 3.2.1 关键参数对材料去除效率影响理论研究 |
| 3.2.2 关键参数对材料去除效率影响实验研究 |
| 3.3 盘式磁流变抛光材料去除效率稳定性影响规律研究 |
| 3.3.1 定点抛光去除函数稳定性实验研究 |
| 3.3.2 关键参数对材料去除效率稳定性影响研究 |
| 3.4 盘式磁流变抛光高材料去除效率及其稳定性 |
| 3.4.1 高材料去除效率参数下去除函数及其效率 |
| 3.4.2 材料去除效率稳定性及其对面形误差收敛效率影响 |
| 3.5 本章小结 |
| 第四章 盘式磁流变抛光表面质量研究 |
| 4.1 盘式磁流变抛光盘相对工件运动轨迹分析 |
| 4.2 盘式磁流变抛光表面形貌形成机理 |
| 4.2.1 表面形貌形成过程及粗糙度预测 |
| 4.2.2 表面轮廓演变仿真计算 |
| 4.3 盘式磁流变抛光表面粗糙度实验研究 |
| 4.3.1 实验和检测方法 |
| 4.3.2 正交实验方案设计 |
| 4.3.3 实验结果处理 |
| 4.3.4 实验结果分析 |
| 4.4 盘式磁流变抛光前后表面质量变化 |
| 4.4.1 抛光前后表面粗糙度 |
| 4.4.2 抛光前后表面元素残留 |
| 4.4.3 抛光前后表面光热弱吸收 |
| 4.5 本章小结 |
| 第五章 光学元件盘式磁流变抛光实例 |
| 5.1 Ф350mm K9玻璃加工实例 |
| 5.1.1 去除函数及其修形能力分析 |
| 5.1.2 玻璃表面迭代加工结果 |
| 5.2 Ф100mm单晶硅加工实例 |
| 5.2.1 盘式磁流变抛光在表面质量提升方面技术优势 |
| 5.2.2 单晶硅表面加工结果 |
| 5.3 本章小结 |
| 第六章 总结与展望 |
| 6.1 全文总结 |
| 6.2 研究展望 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 作者在学期间取得的学术成果 |
（6）基于表面等离子体的超分辨干涉光刻原理和方法研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 光刻技术研究背景 |
| 1.2 传统干涉光刻研究 |
| 1.2.1 描述光刻质量的基本物理参数 |
| 1.2.2 激光干涉光刻技术 |
| 1.2.3 泰伯干涉光刻技术 |
| 1.3 超分辨光刻研究进展 |
| 1.3.1 衍射极限与倏逝波 |
| 1.3.2 超分辨光刻技术 |
| 1.3.3 表面等离子光刻 |
| 1.4 本文主要研究工作及结构 |
| 1.5 本文的章节安排 |
| 第2章 表面等离子体研究的基本理论 |
| 2.1 前言 |
| 2.2 表面等离子基本理论 |
| 2.2.1 表面等离子体的存在条件 |
| 2.2.2 表面等离子的电磁特性 |
| 2.2.3 表面等离子的色散特性 |
| 2.2.4 表面等离子体的激发方式 |
| 2.3 倏逝波调控的电磁计算和分析方法 |
| 2.3.1 亚波长结构电磁场矢量计算方法 |
| 2.3.2 双曲色散超材料分析方法 |
| 2.4 本章小结 |
| 第3章 基于BPPs的固定周期缩小干涉光刻 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 基于BPPs的固定周期缩小干涉光刻原理与设计 |
| 3.2.1 高频倏逝波带通结构设计 |
| 3.2.2 光刻实验结构设计 |
| 3.2.3 场增强技术对光刻效果的影响分析 |
| 3.2.4 膜层粗糙度对光刻效果的影响分析 |
| 3.3 基于BPPs的固定周期缩小干涉光刻实验 |
| 3.3.1 样品制备与曝光实验 |
| 3.3.2 光刻实验结果分析 |
| 3.4 表面等离子体干涉图形样式理论分析 |
| 3.5 本章小结 |
| 第4章 基于BPPs的周期可调的干涉光刻研究 |
| 4.1 前言 |
| 4.2 周期可调的BPPs干涉光刻原理与设计 |
| 4.2.1 周期可调BPPs干涉光刻结构设计 |
| 4.2.2 HMM结构的带通性能分析 |
| 4.2.3 衍射级次透过分析 |
| 4.2.4 背反射层对干涉图案的影响 |
| 4.3 周期可调的BPPs干涉光刻结果分析 |
| 4.3.1 一维周期可调的BPPs干涉光刻 |
| 4.3.2 二维周期可调的BPPs干涉光刻 |
| 4.4 本章小结 |
| 第5章 深亚波长SP干涉光刻研究 |
| 5.1 前言 |
| 5.2 深亚波长SP干涉光刻原理及结构设计 |
| 5.2.1 衍射波激发分析 |
| 5.2.2 金属-介质-金属共振模式 |
| 5.3 深亚波长SP干涉光刻规律分析 |
| 5.3.1 光源偏振态对SP干涉光刻的影响 |
| 5.3.2 介电常数对SP干涉光刻的影响 |
| 5.3.3 空气距对SP干涉光刻影响 |
| 5.4 深亚波长SP干涉光刻实验 |
| 5.5 本章小结 |
| 第6章 总结 |
| 6.1 论文的主要创新点 |
| 6.2 未来的工作展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 |
（7）双红外带通频率选择表面滤波机理研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 课题研究的目的和意义 |
| 1.2 多波段FSS技术国内外研究现状 |
| 1.2.1 多波段FSS技术国外研究现状 |
| 1.2.2 多波段FSS技术国内研究现状 |
| 1.3 课题主要研究内容 |
| 第2章 基于FDTD的FSS红外透射特性分析建模 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 FDTD算法 |
| 2.3 FDTD算法的实现 |
| 2.3.1 FDTD算法的模块与基本方程 |
| 2.3.2 Yee网格及FDTD更新公式 |
| 2.3.3 激励源的构造 |
| 2.3.4 完美匹配层吸收边界 |
| 2.4 基于FDTD算法的FSS红外透射特性分析模型建立 |
| 2.5 本章小结 |
| 第3章 双红外带通FSS设计及红外滤波特性分析 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 FSS滤波结构 |
| 3.3 双红外带通FSS设计流程 |
| 3.4 基于多周期混合方法的双红外带通FSS设计 |
| 3.4.1 圆形孔径FSS及其参数特性 |
| 3.4.2 圆环形孔径FSS及其参数特性 |
| 3.4.3 双红外带通FSS结构设计与尺寸参数优化 |
| 3.4.4 介质层对双红外带通FSS红外透射特性影响 |
| 3.5 本章小结 |
| 第4章 双红外带通FSS电磁屏蔽效率分析 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 周期结构电磁屏蔽效率分析方法 |
| 4.2.1 模匹配法 |
| 4.2.2 等效电磁参数法 |
| 4.2.3 等效电路法 |
| 4.3 圆形孔径FSS等效电路模型 |
| 4.4 环型孔径FSS等效电路模型 |
| 4.4.1 Langley等效电路模型 |
| 4.4.2 Langley等效电路模型的改进 |
| 4.5 双红外带通FSS等效电路模型建立 |
| 4.6 本章小结 |
| 第5章 双红外带通FSS实验研究 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 微加工技术 |
| 5.2.1 掩模光刻技术 |
| 5.2.2 电子束直写技术 |
| 5.3 红外带通FSS实验样片的制备 |
| 5.4 双红外带通FSS电磁屏蔽效率测试 |
| 5.4.1 电磁屏蔽效率测试实验 |
| 5.4.2 电磁屏蔽效率测试结果分析 |
| 5.5 双红外带通FSS红外透射特性测试 |
| 5.5.1 红外透射特性测试系统 |
| 5.5.2 红外透射特性测试结果分析 |
| 5.6 本章小结 |
| 结论 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
（8）亚像素扫描调制系统参数优化研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 无掩模制作技术的发展 |
| 1.1.1 电子束光刻技术 |
| 1.1.2 离子束光刻技术 |
| 1.1.3 激光干涉光刻技术 |
| 1.1.4 波带片阵列光刻技术 |
| 1.1.5 数字无掩模光刻技术 |
| 1.2 数字光刻提高分辨率的研究现状 |
| 1.2.1 离轴照明技术 |
| 1.2.2 光学邻近效应校正技术 |
| 1.2.3 移相掩模技术 |
| 1.2.4 数字分形掩模技术 |
| 1.3 论文主要的研究内容安排 |
| 第二章 亚像素扫描调制光刻技术 |
| 2.1 前言 |
| 2.2 亚像素扫描调制光刻技术研究 |
| 2.3 基于DMD无掩模光学光刻的L/S模型 |
| 2.4 亚像素扫描调制数字掩模设计 |
| 2.5 仿真模拟研究 |
| 2.5.1 亚像素单方向扫描提高分辨率的机理 |
| 2.5.2 亚像素扫描调制数字掩模优化机理 |
| 2.6 本章小结 |
| 第三章 亚像素调制光刻系统设计 |
| 3.1 前言 |
| 3.2 亚像素调制光源系统 |
| 3.2.1 紫外曝光光源 |
| 3.2.2 数字微镜器件（DMD） |
| 3.2.3 投影物镜 |
| 3.2.4 分束镜 |
| 3.2.5 亚像素调制光源系统的调整 |
| 3.3 亚像素调制电控系统 |
| 3.3.1 步进电机 |
| 3.3.2 工件台 |
| 3.3.3 电控系统的改进 |
| 3.4 亚像素调制反馈系统 |
| 3.4.1 电荷耦合器件(CCD) |
| 3.4.2 CCD调焦技术 |
| 3.4.3 反馈系统的调整 |
| 3.5 系统主要性能指标测量 |
| 3.6 本章小结 |
| 第四章 实验研究 |
| 4.1 前言 |
| 4.2 实验制作工艺 |
| 4.2.1 基底表面预处理 |
| 4.2.2 涂胶 |
| 4.2.3 前烘 |
| 4.2.4 曝光 |
| 4.2.5 后烘 |
| 4.2.6 显影定影 |
| 4.2.7 显微测量 |
| 4.3 实验制作 |
| 4.3.1 实验主要参数 |
| 4.3.2 亚像素分辨率测试实验 |
| 4.3.3 亚像素扫描数字掩模优化实验 |
| 4.4 本章小结 |
| 第五章 总结与展望 |
| 5.1 总结 |
| 5.2 展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
（9）基于闪耀光栅图形化实现高分辨率干涉光刻（论文提纲范文）
| 1 引言 |
| 2 图形化干涉光刻系统的光场特性 |
| 3 基于闪耀光栅的图形化干涉光刻方法 |
| 3.1 基于闪耀光栅的衍射分光原理 |
| 3.2 闪耀光栅的参数优化 |
| 4 光刻系统及实验结果分析 |
| 5 结论 |
（10）超像素调制数字光刻分辨率增强技术研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 无掩模光刻技术的发展 |
| 1.1.1 电子束光刻技术 |
| 1.1.2 离子束光刻技术 |
| 1.1.3 激光直写技术 |
| 1.1.4 波带片阵列光刻技术 |
| 1.1.5 数字光刻技术 |
| 1.2 光刻分辨率增强技术 |
| 1.2.1 离轴照明技术 |
| 1.2.2 光学邻近效应校正技术 |
| 1.2.3 移相掩模技术 |
| 1.2.4 数字分形掩模技术 |
| 1.3 本论文研究的主要工作 |
| 第2章 超像素调制光刻技术 |
| 2.1.引言 |
| 2.2 轴向超像素调制光刻方法 |
| 2.2.1 设计原理 |
| 2.2.2 仿真验证 |
| 2.3 多像素移动调制光刻方法 |
| 2.3.1 设计原理 |
| 2.3.2 ?光刻法理论 |
| 2.3.3 仿真验证 |
| 2.3.4 微透镜数字掩模设计方法 |
| 2.4 总结 |
| 第3章 超像素调制光刻系统设计 |
| 3.1 前言 |
| 3.2 超像素调制成像系统 |
| 3.2.1 数字微镜器件(DMD) |
| 3.2.2 精缩物镜 |
| 3.2.3 紫外光源曝光系统 |
| 3.2.4 超像素调制成像系统的调整 |
| 3.3 超像素调制控制系统 |
| 3.3.1 步进电机 |
| 3.3.2 超像素调制控制系统的防震措施 |
| 3.3.3 超像素调制控制系统的调整 |
| 3.4 超像素调制反馈系统 |
| 3.4.1 电荷耦合器件CCD |
| 3.4.2 超像素调制反馈系统的调整 |
| 3.5 本章总结 |
| 第4章 实验研究 |
| 4.1.引言 |
| 4.2 实验步骤及其工艺 |
| 4.2.1 基底表面预处理 |
| 4.2.2 涂胶 |
| 4.2.3 前烘 |
| 4.2.4 曝光 |
| 4.2.5 后烘 |
| 4.2.6 显影 |
| 4.2.7 观察效果 |
| 4.3 实验制作 |
| 4.3.1 本实验主要参数 |
| 4.3.2 轴向超像素调制光刻方法实验结果 |
| 4.3.3 多像素移动调制方法实验结果 |
| 4.4 结论 |
| 第5章 结论与展望 |
| 5.1 总结 |
| 5.2 展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
四、新型滤波提高光刻分辨率方法研究（论文参考文献）
- [1]基于偏振调制的高精度焦面检测技术研究[D]. 王建. 中国科学院大学(中国科学院光电技术研究所), 2021(08)
- [2]基于衍射轴锥镜的全息投影系统研究[D]. 洪青青. 安徽大学, 2020(07)
- [3]基于表面等离子激元的反射式颜色滤波器的研究[D]. 吴青峻. 浙江大学, 2020
- [4]基于反射型超表面的电磁调控器原理及制备技术研究[D]. 张明. 重庆大学, 2019
- [5]盘式磁流变抛光关键技术研究[D]. 管峰. 国防科技大学, 2018
- [6]基于表面等离子体的超分辨干涉光刻原理和方法研究[D]. 刘洪超. 中国科学院大学(中国科学院光电技术研究所), 2018(01)
- [7]双红外带通频率选择表面滤波机理研究[D]. 周子涵. 哈尔滨工业大学, 2018(01)
- [8]亚像素扫描调制系统参数优化研究[D]. 艾斌. 南昌航空大学, 2017(01)
- [9]基于闪耀光栅图形化实现高分辨率干涉光刻[J]. 胡进,董晓轩,浦东林,申溯,陈林森. 光学精密工程, 2015(12)
- [10]超像素调制数字光刻分辨率增强技术研究[D]. 郭庆龙. 南昌航空大学, 2015(04)